[發明專利]涂層用組合物、硬涂膜及光記錄介質

有效

• 申請號: 200580047504.8
• 申請日: 2005-11-22
• 公開（公告）號: CN101111580A
• 公開（公告）日: 2008-01-23
• 發明（設計）人: 本鄉有記;富岡健太;所司悟
• 申請（專利權）人: 琳得科株式會社
• 主分類號: C09D171/02
• 分類號: C09D171/02;C08J7/04;C09D4/00;C09D7/12;C09D183/04;G02B1/10;G11B7/24;G11B7/254;G11B7/257;C08L101/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 陳昕

1.涂層用組合物，其特征在于，含有：

分子內具有1個以上聚合性不飽和基團的有機化合物以化學鍵合在無機氧化物粒子上形成的反應性粒子(A)；

分子內具有聚環氧乙烷鏈和2個以上聚合性不飽和基團，且不具有芳環和碳數7以上的烷基鏈的有機化合物的單體或低聚物(B)；

分子內具有2個以上聚合性不飽和基團的除上述有機化合物的單體或低聚物(B)以外的有機化合物的單體或低聚物(C)；和

具有二烷基硅氧烷骨架的硅氧烷類化合物(D)，

上述有機化合物的單體或低聚物(B)的含量為20～80質量％，

由下式導出的上述有機化合物的單體或低聚物(B)中的聚環氧乙烷的含有率為50％以上且小于100％，

聚環氧乙烷的含有率＝(C₂H₄O部位的原子量的合計/有機化合物的單體或低聚物(B)的分子量)×100。

2.如權利要求1所述的涂層用組合物，其特征在于，

上述硅氧烷類化合物(D)是具有二烷基硅氧烷骨架、且分子內具有1個以上聚合性不飽和基團的硅氧烷類化合物(D1)，而且，

上述涂層用組合物基本上不含硅氧烷類化合物(D2)，所述硅氧烷類化合物(D2)是具有二烷基硅氧烷骨架、但分子內不具有聚合性不飽和基團的硅氧烷類化合物。

3.如權利要求1或2所述的涂層用組合物，其特征在于，還含有氟類化合物(E)。

4.如權利要求1～3中任一項所述的涂層用組合物，其特征在于，具有二烷基硅氧烷骨架的硅氧烷類化合物(D)的含量和氟類化合物(E)的含量的合計為2～80質量％。

5.硬涂膜，其特征在于，具有：

基材薄膜；和

將權利要求1～4中任一項所述的涂層用組合物涂敷在上述基材薄膜的至少一個面上，并使之固化而成的厚度為0.1～20μm的硬涂層。

6.如權利要求5所述的硬涂膜，其特征在于，其400nm的分光透射率為85％以上。

7.光記錄介質，其特征在于，具有權利要求5或6所述的硬涂膜。