[發明專利]漿料模具及漿料模具的使用

無效

• 申請號: 200580047284.9
• 申請日: 2005-11-25
• 公開（公告）號: CN101111641A
• 公開（公告）日: 2008-01-23
• 發明（設計）人: 比約恩·尼爾森;拉斯·格拉夫頓;利夫·巴斯克曼
• 申請（專利權）人: PAKIT國際貿易股份有限公司
• 主分類號: D21J3/00
• 分類號: D21J3/00;D21J7/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 曲瑩;馬高平

1.用于由纖維漿料模制物體的漿料模具(100、200)，包括燒結模制表面(130、230)和可滲透的基底結構(110、210)，其特征在于，模制表面(130、230)包括至少一層平均直徑(131d、231d)在0.01-0.19mm范圍內、優選在0.05-0.18mm范圍內的燒結顆粒(131、231)。

2.根據權利要求1所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，漿料模具(100、200)的導熱率在1-1000W/(m℃)的范圍內，優選至少10W/(m℃)，更優選至少40W/(m℃)。

3.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，可滲透的基底結構(110、210)包括燒結顆粒(111、211)，所述燒結顆粒具有大于模制表面中顆粒的平均直徑(111d、211d)，優選至少0.25mm，優選至少0.35mm，更優選至少0.45mm，并且平均直徑(111d、211d)小于10mm，優選小于5mm，更優選小于2mm。

4.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，包括燒結顆粒(121、221)的可滲透支撐層(120、220)設置在基底結構(110、210)和模制表面(130、230)之間，其中，支撐層(120、220)的顆粒(121、221)的平均直徑(121d、122d)小于基底結構(110、210)中的燒結顆粒(111、211)的平均直徑(111d、211d)。

5.根據權利要求4所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，支撐層(120、220)中的燒結顆粒(121、221)的平均直徑(121d、122d)大于模制表面(130、230)中的燒結顆粒(131、231)的平均直徑(131d、231d)。

6.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，漿料模具(100、200)的總孔隙率為至少8％，優選至少12％，更優選至少15％，而且漿料模具(100、200)的總孔隙率小于40％，優選小于35％，更優選小于30％。

7.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，設置熱源，為漿料模具(100、200)提供熱量。

8.根據權利要求7中所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，熱源設置在漿料模具(100、200)的底部(140、240)。

9.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，漿料模具(100、200)具有設置在其底部(140、240)的吸力源。

10.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，基板(410)連接到漿料模具(100、200)的底部(140、240)，并且該基板(410)具有吸入口(412)。

11.根據權利要求10所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，基板(410)是加熱板(410)。

12.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，漿料模具(100、200)具有至少一個設置在其底部(140、240)的致動器。

13.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，底部(140、240)基本設置為傳遞所施加的壓力，優選沒有較大孔隙并優選基本是平面的。

14.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，漿料模具(100、200)能夠經受至少400℃的溫度。

15.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，該漿料模具具有陽模(100)和陰模(200)部分，每個都具有設置為在擠壓和加熱作用過程中與模制漿料接觸的模制表面(130、230)。

16.根據前述權利要求任一項所述的漿料模具(100、200)，其特征在于，漿料模具(100、200)包含至少一個、優選多個排水槽(150、250)。