[發(fā)明專利]太陽能電池用光吸收層及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580046447.1 | 申請日: | 2005-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN101099243A | 公開(公告)日: | 2008-01-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 崔寅煥 | 申請(專利權(quán))人: | 銀太陽科技發(fā)展公司 |
| 主分類號: | H01L31/04 | 分類號: | H01L31/04 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 周建秋;王鳳桐 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽能電池 用光 吸收 及其 制備 方法 | ||
1、一種太陽能電池用光吸收層的制備方法,該方法包括以下步驟:
步驟1:通過金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積,由含有第III族元素B和第VI族元 素X的單獨(dú)前體在基底上形成結(jié)構(gòu)式為BX的化合物薄膜;
步驟2:通過金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積,將來自含有第I族金屬元素A的 前體的金屬供給所述結(jié)構(gòu)式為BX的化合物薄膜,形成結(jié)構(gòu)式為A2X的化合 物薄膜;
步驟3:通過金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積,使用含有第III族元素C和第VI族 元素X的單獨(dú)前體在所述結(jié)構(gòu)式為A2X的化合物薄膜上形成結(jié)構(gòu)式為ACX2的化合物薄膜,其中,第III族元素B的原子序數(shù)大于第III族元素C;以及
步驟4:通過金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積,使用含有第III族元素B和第VI族 元素X的單獨(dú)前體在所述結(jié)構(gòu)式為ACX2的化合物薄膜上形成結(jié)構(gòu)式為 ABX2的化合物薄膜,由此形成第一層結(jié)構(gòu)式為ACX2,第二層結(jié)構(gòu)式為ABX2的多層薄膜結(jié)構(gòu)。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,在步驟2中,第I族元素A的 用量大于形成結(jié)構(gòu)式為A2X的化合物薄膜的最佳化學(xué)計(jì)量當(dāng)量比。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,該方法還包括步驟5:通過金屬有機(jī)化 學(xué)氣相沉積將來自含有第I族元素A的前體的金屬供給在步驟4中形成的第 一層結(jié)構(gòu)式為ACX2,第二層結(jié)構(gòu)式為ABX2的化合物薄膜,以向該薄膜補(bǔ) 充元素A,并且通過金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積,使用含有第III族元素B和第VI 族元素X的單獨(dú)前體完全形成所述第一層結(jié)構(gòu)式為ACX2,第二層結(jié)構(gòu)式為 ABX2的多層薄膜結(jié)構(gòu)。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,該方法還包括步驟6:通過金屬有機(jī)化 學(xué)氣相沉積,使用含有第III族元素C和第VI族元素X的單獨(dú)前體,在步驟5 中形成的所述第一層結(jié)構(gòu)式為ACX2,第二層結(jié)構(gòu)式為ABX2的多層薄膜結(jié) 構(gòu)上形成第一層結(jié)構(gòu)式為ACX2,第二層結(jié)構(gòu)式為A(B,C)X2的多層薄膜結(jié)構(gòu)。
5、根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,該方法還包括步驟7:通過金屬有機(jī)化 學(xué)氣相沉積將來自含有第I族元素A的前體的金屬供給在步驟6中形成的所 述第一層結(jié)構(gòu)式為ACX2,第二層結(jié)構(gòu)式為A(B,C)X2的多層薄膜結(jié)構(gòu),以向 該多層薄膜結(jié)構(gòu)補(bǔ)充元素A,并且通過金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積,使用含有第 III族元素B和第VI族元素X的單獨(dú)前體在該多層薄膜結(jié)構(gòu)上形成結(jié)構(gòu)式為 ABX2的化合物薄膜,由此形成第一層結(jié)構(gòu)式為ACX2,第二層結(jié)構(gòu)式為 A(B,C)X2,第三層結(jié)構(gòu)式為ABX2的多層薄膜結(jié)構(gòu)。
6、根據(jù)權(quán)利要求3-5中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,在步驟2中,所 述第I族元素A以形成結(jié)構(gòu)式為A2X化合物薄膜的最佳化學(xué)計(jì)量當(dāng)量比來 使用。
7、根據(jù)權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)所述的方法,其中,所述第I族元素A 為銅,所述第III族元素B為銦,所述第III族元素C為鎵或鋁,所述第VI族 元素X為硒。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





