[發明專利]微型浮質噴嘴和浮質噴嘴陣列

有效

• 申請號: 200580046375.0
• 申請日: 2005-12-13
• 公開（公告）號: CN101098734A
• 公開（公告）日: 2008-01-02
• 發明（設計）人: 邁克爾·J·雷恩;布魯斯·H·金;賈森·A·保爾森
• 申請（專利權）人: 奧普美克設計公司
• 主分類號: A62C31/00
• 分類號: A62C31/00;B05B1/28;B05B7/12;F23D11/10;B05B7/06
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王新華

1.一種用于將材料沉積到目標上的沉積頭組件，所述沉積頭組件用 于非接觸打印，包含沉積頭的所述沉積頭組件包括：

通道，所述通道用于輸送包括所述材料的浮質；

一個或多個入口，所述入口用于將鞘氣引入所述沉積頭中；

連接至所述入口的第一室；

緊靠所述通道的出口的區域，所述區域用于將所述浮質與所述鞘氣相 結合，從而形成包括圍繞內部浮質流的外部鞘流的環狀噴流；以及

伸長管嘴，所述伸長管嘴延伸自所述區域以減少所述環狀噴流的直 徑。

2.根據權利要求1所述的沉積頭組件，具有小于1cm的直徑。

3.根據權利要求1所述的沉積頭組件，其中所述入口沿圓周布置在所 述通道的周圍。

4.根據權利要求1所述的沉積頭組件，其中所述區域包括第二室。

5.根據權利要求1所述的沉積頭組件，其中所述第一室在所述沉積頭 的外部，且在所述鞘氣與所述浮質相結合前，所述第一室繞著所述通道形 成鞘氣壓力的圓柱形對稱分布。

6.根據權利要求1所述的沉積頭組件，其中所述第一室足夠長以在所 述鞘氣與所述浮質相結合前，足以繞著所述通道形成鞘氣壓力的圓柱形對 稱分布。

7.根據權利要求1所述的沉積頭組件，進一步包括用于從所述第一室 接收鞘氣的第三室，所述第三室幫助所述第一室在所述鞘氣與所述浮質相 結合前繞著所述通道形成鞘氣壓力的圓柱形對稱分布。

8.根據權利要求7所述的沉積頭組件，其中所述第三室通過多個通道 被連接至所述第一室，其中所述多個通道平行于所述通道且沿圓周設置在 所述通道周圍。

9.根據權利要求1所述的沉積頭組件，包括用于使所述沉積頭相對于 所述目標平移或傾斜的一個或多個致動器。

10.一種用于將材料沉積在目標上的設備，所述設備用于非接觸打印， 所述設備包括：

多個通道，所述多個通道用于輸送包括所述材料的浮質；

圍繞所述通道的鞘氣室；

緊靠各所述通道的出口的區域，所述區域用于使所述浮質與鞘氣相結 合，從而形成用于每一個所述通道的環狀噴流，所述噴流包括圍繞內部浮 質流的外部鞘流；以及

與每一個所述通道相對應的伸長管嘴，所述伸長管嘴延伸自所述區 域，每個所述伸長管嘴減少所述環狀噴流的直徑。

11.根據權利要求10所述的設備，其中所述多個通道形成陣列。

12.根據權利要求10所述的設備，其中所述浮質從共用室進入每一個 所述通道。

13.根據權利要求10所述的設備，其中所述浮質被單獨供給到至少一 個所述通道。

14.根據權利要求13所述的設備，其中第二材料成煙霧狀散開并隨后 被供給到至少一個所述通道。

15.根據權利要求10所述的設備，其中在至少一個所述通道中的浮質 的質量流量可單獨控制。

16.根據權利要求10所述的設備，包括用于使一個或多個所述通道和 伸長管嘴相對于所述目標平移或傾斜的一個或多個致動器。

17.根據權利要求10所述的設備，進一步包括霧化器，所述霧化器包 括：

用于保持所述材料的圓柱形腔室；

設置在所述腔室的底部上的薄聚合物膜；

超聲波池，所述超聲波池用于容納所述腔室且將超聲波能量向上引導 穿過所述膜；

載體管，所述載體管用于將載體氣體引入到所述腔室中；以及

一個或多個抽取管，所述抽取管用于將所述浮質發送至所述多個通 道。

18.根據權利要求17所述的設備，其中所述載體管包括一個或多個開 口。

19.根據權利要求17所述的設備，進一步包括連接至所述載體管的漏 斗，用于使所述材料的大液滴再循環。

20.根據權利要求17所述的設備，其中額外的材料被持續地提供至所 述霧化器，以替換被傳送至所述多個通道的材料。