[發明專利]用于二氧化硅和氮化硅層的蝕刻的可印刷介質

無效

• 申請號: 200580046197.1
• 申請日: 2005-12-19
• 公開（公告）號: CN101098833A
• 公開（公告）日: 2008-01-02
• 發明（設計）人: W·斯托庫姆;A·屈貝爾貝克;S·克萊因
• 申請（專利權）人: 默克專利股份有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 劉明海

1.用于蝕刻和任選地摻雜選自基于二氧化硅的玻璃和基于氮化硅的玻璃的無機玻璃狀或結晶層的糊劑形式的可印刷蝕刻介質，該層位于結晶或無定形硅表面上，該介質包括

a)蝕刻組分

b)溶劑

c)聚合物和/或無機粒子，

d)任選地均勻溶解的有機增稠劑

e)任選地至少一種無機和/或有機酸，和任選地

f)添加劑，如防沫劑、觸變劑、流動控制劑、脫氣劑、粘合促進劑。

2.根據權利要求1的可印刷蝕刻介質，其特征在于加入相對粒徑為10nm-50μm，優選100nm-30μm和非常特別優選1μm-10μm的聚合物粒子。

3.根據權利要求1的可印刷蝕刻介質，其特征在于它包括數量為1-80wt％的聚合物粒子，基于總數量。

4.根據權利要求1的可印刷蝕刻介質，其特征在于它包括數量為10-50wt％，特別地20-40wt％的聚合物粒子，基于總數量。

5.根據權利要求1的可印刷蝕刻介質，其特征在于蝕刻組分存在的數量為12-30wt％，優選2-20wt％和特別優選5-15wt％，基于總數量。

6.根據權利要求1的可印刷蝕刻介質，其特征在于增稠劑存在的數量為3-20wt％，基于總數量。

7.根據權利要求1-6的可印刷蝕刻介質，其特征在于它包括一種或不同形式的磷酸、磷酸鹽或在加熱時分解成相應的磷酸并作為蝕刻組分和作為摻雜組分的化合物。

8.根據權利要求1-7的可印刷蝕刻介質，用于玻璃表面，它包括選自如下的元素：鈣、鈉、鋁、鉛、鋰、鎂、鋇、鉀、硼、鈹、磷、鎵、砷、銻、鑭、鈧、鋅、釷、銅、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、鉬、釩、鈦、金、鉑、鈀、銀、鈰、銫、鈮、鉭、鋯、釔、釹和鐠。

9.根據權利要求1和5的蝕刻介質，其特征在于它包括作為蝕刻組分的以下物質：

選自銨、堿金屬和銻的氟化物，銨、堿金屬和鈣的二氟化物，烷基化的銨和鉀的四氟硼酸鹽的至少一種氟化合物，和/或任選地

選自鹽酸、磷酸、硫酸和硝酸的至少一種無機酸，和/或任選地

選自烷基羧酸、羥基羧酸和二羧酸的至少一種有機酸，它可包含含有1-10個C原子的直鏈或支化烷基。

10.根據權利要求9的蝕刻介質，其特征在于它包括選自甲酸、乙酸、乳酸和草酸的有機酸。

11.根據權利要求1-10的蝕刻介質，其特征在于有機和/或無機酸的比例是0-80wt％的濃度，基于介質的總數量，其中加入的酸每種的pK_a數值為0-5。

12.根據權利要求1-11的蝕刻介質，其特征在于它包括作為溶劑的水、一元醇或多元醇，如甘油、1，2-丙二醇、1，4-丁二醇、1，3-丁二醇、1，5-戊二醇、2-乙基-1-己烯醇、乙二醇、二甘醇和二丙二醇、及其醚，如乙二醇單丁基醚、三甘醇單甲基醚、二甘醇單丁基醚和二丙二醇單甲基醚，和酯，如[2，2-丁氧基(乙氧基)]乙基乙酸酯，碳酸酯，如碳酸丙烯酯，酮，如苯乙酮、甲基-2-己酮、2-辛酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮和1-甲基-2-吡咯烷酮，該溶劑按自身或以混合物，數量為10-90wt％，優選數量為15-85wt％，基于介質的總數量。

13.根據權利要求1-12的蝕刻介質，其特征在于它包括如下的聚合物粒子：聚苯乙烯、聚丙烯酸化合物、聚酰胺、聚酰亞胺、聚甲基丙烯酸酯、蜜胺、尿烷、苯并鳥嘌呤和酚醛樹酯、硅樹脂、微粉化纖維素、氟化聚合物(PTFE，PVDF)和微粉化蠟。

14.根據權利要求1-12的蝕刻介質，其特征在于它包括如下的無機粒子：氧化鋁、氟化鈣、氧化硼和氯化鈉。

15.根據權利要求1-12的蝕刻介質，其特征在于它包括如下的一種或多種均勻溶解的增稠劑：

纖維素/纖維素衍生物和/或

淀粉/淀粉衍生物和/或

黃原膠和/或

聚乙烯基吡咯烷酮

基于官能化乙烯基單元的丙烯酸酯的聚合物。

16.根據權利要求1-12的蝕刻介質，其特征在于它包括數量為0.5-25wt％的根據權利要求15的均勻分布的增稠劑，基于蝕刻介質的總數量。