[發明專利]用于減反射涂層的耐久性高折射率納米級復合材料

有效

• 申請號: 200580045628.2
• 申請日: 2005-12-21
• 公開（公告）號: CN101124273A
• 公開（公告）日: 2008-02-13
• 發明（設計）人: 克里斯托弗·B·小·沃克;布蘭特·U·科爾布;埃米莉·S·根納;維維安·W·瓊斯;莎倫·王;瓊·M·努瓦拉
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: C08K9/06
• 分類號: C08K9/06;C09D133/04;C08F2/44;C08K3/22;C08J7/04
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司
• 代理人: 丁業平;張天舒

1.一種UV固化型光學涂層，其包含：

可聚合單體/低聚物混合物；和

表面改性的無機納米顆粒，該無機納米顆粒包含表面改性的二氧化鋯納米顆粒，其中，所述的光學涂層的折射率為至少1.6，其中，所述涂層的10點平均粗糙度值為至少30納米。

2.權利要求1所述的涂層，其中，所述二氧化鋯納米顆粒是用丙烯酸酯硅烷改性的。

3.權利要求2所述的涂層，其中，所述的單體/低聚物樹脂與一種或多種具有實質上的丙烯酸酯官能團的單體發生交聯。

4.權利要求1所述的涂層，其中，所述表面改性的納米顆粒包含較多量的其橫截面平均直徑為約10納米-30納米的納米顆粒以及較少量的其橫截面平均直徑為約80納米-150納米的納米顆粒。

5.權利要求4所述的涂層，其中，所述的較多量的納米顆粒占所述的全部納米顆粒總重量的約67重量％到90重量％。

6.權利要求1所述的涂層，其中，所述無機納米顆粒包含相對較小的二氧化鋯納米顆粒和相對較大的二氧化硅納米顆粒，并且所述較大的顆粒占所述的全部納米顆粒總重量的約10重量％到33重量％。

7.一種顯示系統，該顯示系統包含權利要求1所述的涂層。

8.一種減反射涂層，該減反射涂層包含權利要求1所述的涂層。

9.權利要求1所述的涂層，其中，所述的無機納米顆粒選自：二氧化鋯、二氧化硅、二氧化鈦、氧化銻、混合金屬氧化物或它們的混合物。

10.一種減反射膜，該減反射膜具有：

聚合物基底；

硬涂層，其與所述聚合物基底連接；

高折射率光學層，其與所述硬涂層連接；和

可任選的低折射率光學層，其與所述高折射率光學層連接，

其中，所述的高折射率光學層包含官能化二氧化鋯納米顆粒的雙峰態體系，該雙峰態體系包含較多量的尺寸為約10納米-30納米的納米顆粒以及較少量的尺寸為約80納米-150納米的納米顆粒。

11.權利要求10所述的減反射膜，其中，所述的雙峰態體系還包含二氧化硅納米顆粒。

12.權利要求10所述的減反射膜涂層，其中，所述的較多量的納米顆粒為二氧化鋯納米顆粒，并且所述的較少量的納米顆粒為二氧化鋯納米顆粒。

13.一種顯示系統，該顯示系統具有權利要求10所述的減反射膜。

14.權利要求10所述的涂層，其中，所述的二氧化鋯納米顆粒的10點平均值為至少30納米。

15.權利要求10所述的涂層，其中，所述的二氧化鋯納米顆粒通常以離散狀態的顆粒形式存在于所述聚合物基底中。

16.權利要求10所述的涂層，其折射率為至少1.6。

17.一種保護膜，該保護膜具有：

聚合物基底；和

硬涂層，其被固定在所述聚合物基底上，所述硬涂層的折射率為至少1.6；

其中，所述的硬涂層包含官能化無機納米顆粒的雙峰態體系，所述官能化無機納米顆粒包含表面改性的二氧化鋯納米顆粒，其中，較多量的納米顆粒的尺寸為約10納米-30納米，而較少量的納米顆粒的尺寸為約80納米-150納米。

18.權利要求17所述的保護膜，其還具有與所述硬涂層連接的低折射率光學層。

19.一種顯示系統，該顯示系統具有權利要求17所述的保護膜。

20.權利要求17所述的涂層，其中，所述的無機納米顆粒包含經研磨的二氧化鋯納米顆粒。

21.權利要求17所述的涂層，其包含少于70重量％的無機納米顆粒。

22.權利要求17所述的涂層，其包含這樣的二氧化鋯納米顆粒，該二氧化鋯納米顆粒被定義為其多分散度為約0.4到約0.8并且z-平均值為約20到80。

23.權利要求17所述的涂層，其包含這樣的二氧化鋯納米顆粒，該二氧化鋯納米顆粒被定義為其體積平均粒度值為約10nm到30nm并且強度平均粒度值∶體積平均粒度值的比值為約1.5∶18。