[發明專利]用于用晶片制造半導體芯片的方法有效
| 申請號: | 200580045426.8 | 申請日: | 2005-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN101095222A | 公開(公告)日: | 2007-12-26 |
| 發明(設計)人: | R·施皮茨;A·格拉赫;F·哈恩 | 申請(專利權)人: | 羅伯特·博世有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/78 | 分類號: | H01L21/78;H01L29/866 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 曾立 |
| 地址: | 德國斯*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 晶片 制造 半導體 芯片 方法 | ||
1.用于用包含多個半導體芯片(2)的晶片(1)制造半導體芯片(2)、特別是ZR-二極管芯片的方法,其特征在于,在晶片表面產生給定折斷部(14),并且將該晶片(1)沿著這些給定折斷部(14)折斷,以便將這些半導體芯片(2)分離。
2.根據權利要求1的方法,其特征在于,這些給定折斷部(14)作為線形的凹槽形式來實現。
3.根據權利要求1或2的方法,其特征在于,在該晶片(1)的折斷之后不再-或者只是略微地-將這些半導體芯片(2)的側面的折斷邊緣(12)進行再處理,以便去除晶體缺陷。
4.根據上述權利要求之一所述的方法,其特征在于,將其用于具有pn結(4-3)的半導體芯片(2),所述pn結(4-3)一直達到所述半導體芯片(2)的側面邊緣(15)。
5.根據上述權利要求之一所述的方法,其特征在于,這些給定折斷部(14)的深度(c)小于位于所述半導體芯片(2)的側面的邊緣區域中的pn結(4-3)的深度(d)。
6.根據上述權利要求之一所述的方法,其特征在于,將這些給定折斷部(14)鋸割到晶片表面中。
7.根據上述權利要求之一所述的方法,其特征在于,在該晶片(1)的正面(9)中產生這些給定折斷部(14)。
8.根據權利要求1至6之一所述的方法,其特征在于,在正面(9)和背面(10)中產生這些給定折斷部(14)。
9.根據上述權利要求之一所述的方法,其特征在于,這樣選擇這些給定折斷部(14)相對于該晶片(1)的晶體結構的取向,使得它們與容易被折斷的晶面平行地延伸。
10.根據上述權利要求之一所述的方法,其特征在于,將設置有給定折斷部的晶片(1)在所述芯片(2)的分離之前粘貼到一個薄膜上。
11.具有半導體芯片(2)的半導體器件,特別是Z-二極管,所述半導體芯片具有一直達到該芯片(2)的側面邊緣(15)的pn結(4-3)并且用一個晶片(1)來制造,其特征在于,該半導體芯片(2)具有側面的折斷面(12),這些折斷面不被再處理或者僅僅被略微地再處理,以便去除晶體缺陷。
12.根據權利要求11的半導體器件,其特征在于,所述半導體芯片(2)在其側面邊緣(15)上具有晶片給定折斷部(14)的標記。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





