[發明專利]用于兩側測量的重疊共用路徑干涉儀

無效

• 申請號: 200580044620.4
• 申請日: 2005-12-14
• 公開（公告）號: CN101087990A
• 公開（公告）日: 2007-12-12
• 發明（設計）人: A·W·庫拉維克;M·J·特羅諾洛恩;J·C·馬龍;T·J·鄧恩
• 申請（專利權）人: 康寧股份有限公司
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 李玲

1.一種用于測量不透明部件的相反的側面的干涉系統，測量相反的側面既是單獨進行的也是彼此相關地進行的，所述干涉系統包括：

具有第一參照面的第一干涉儀；

具有第二參照面的第二干涉儀；

所述第一和第二參照面位于所述干涉儀中的至少第一干涉儀的視場內；

所述第一干涉儀定位成用于測量在所述不透明部件的第一側面與所述第一參照面上相應的點之間的距離；

所述第二干涉儀定位成用于測量在所述不透明部件的第二側面與所述第二參照面上相應的點之間的距離；

所述第一干涉儀也定位成用于測量在所述第一和第二參照面上相應的點之間的距離；以及

處理器，所述處理器基于所述參照面之間的距離測量使所述不透明部件的第一和第二側面的有關測量彼此關聯起來。

2.如權利要求1所述的系統，還包括用于將所述不透明部件定位到所述第一和第二參照面之間的支架。

3.如權利要求2所述的系統，其特征在于，所述第一和第二參照面既是部分透射的又是部分反射的。

4.如權利要求3所述的系統，其特征在于，所述第一干涉儀具有第一參照路徑和第一測試路徑，所述第一參照路徑包括來自所述第一參照面的反射，所述第一測試路徑包括穿過所述第一參照面到達和來自所述不透明部件的第一側面的透射；并且所述第二干涉儀具有第二參照路徑和第二測試路徑，所述第二參照路徑包括來自所述第二參照面的反射，所述第二測試路徑包括穿過所述第二參照面到達和來自所述不透明部件的第二側面的透射。

5.如權利要求4所述的系統，其特征在于，所述第一干涉儀還具有一測試路徑，該測試路徑包括穿過所述第一參照面到達和來自所述第二參照面的透射。

6.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述第一干涉儀是一種工作在一連串不同測量光束頻率處的頻移干涉儀，用于解決基于波長的測量模糊性。

7.如權利要求6所述的系統，其特征在于，所述頻移干涉儀提供了足夠大的測量范圍以明確地確定所述第一和第二參照面之間的距離。

8.如權利要求7所述的系統，其特征在于，所述第一和第二干涉儀都是頻移干涉儀，用于明確地測量在所述不透明部件的第一側面與所述第一參照面之間以及在所述不透明部件的第二側面與所述第二參照面之間的距離。

9.如權利要求1所述的系統，其特征在于，與所述不透明部件的第一和第二側面上的點相對應的所述第一和第二參照面上的點不同于彼此相對應的第一和第二參照面上用于測量第一和第二參照面之間距離的那些點。

10.如權利要求9所述的系統，其特征在于，所述第一和第二參照面具有假定的形狀，并且所述第一和第二參照面上相應的點之間的距離測量與假定的形狀一起允許計算與所述不透明部件的第一和第二側面上的點所對應的參照面上的點相一致的參照面之間其它相應的點處的距離測量。

11.如權利要求10所述的系統，其特征在于，通過從由第一和第二參照面上其它相應的點之間的距離測量獲得的、在第一和第二參照面上相應的點之間的距離中減去在不透明部件的第一和第二側面以及第一和第二參照面上相應的點之間的相應距離測量，所述處理器測量不透明部件的第一和第二側面上相應的點之間的部件厚度。

12.一種用于測量具有第一和第二側面的測試部件的干涉系統，包括：

第一干涉儀，它具有第一參照面和第一光路，所述第一光路用于傳送第一測量光束以便測量所述測試部件的第一側面與所述第一參照面之間的光程差；

第二干涉儀，它具有第二參照面和第二光路，所述第二光路用于傳送第二測量光束以便測量所述測試部件的第二側面與所述第二參照面之間的光程差；

所述第一干涉儀的第一光路超越所述測試部件的第一側面延伸到所述第二干涉儀的第二參照面，以便測量所述第一和第二參照面之間的光程差；以及

處理器，所述處理器將所述測試部件的第一和第二側面與所述第一和第二參照面之間的相應光程差的測量與所述第一和第二參照面之間的光程差的測量組合起來，以便測量所述測試部件的第一和第二側面之間的距離。

13.如權利要求12所述的系統，其特征在于，所述第一光路在所述測試部件的第二側面與所述第二參照面之間的長度方向上與所述第二光路重疊。