[發(fā)明專利]微細(xì)加工處理劑以及使用其的微細(xì)加工處理方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200580043740.2
• 申請(qǐng)日: 2005-12-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101084573A
• 公開(kāi)（公告）日: 2007-12-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 菊山裕久;脇雅秀;伊藤周德;久次米孝信;二井啟一;長(zhǎng)谷部類;鶴丸一志;中嶌秀紀(jì)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 斯泰拉化工公司
• 主分類號(hào): H01L21/306
• 分類號(hào): H01L21/306;C23F1/26
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 苗堃;劉繼富

1.一種微細(xì)加工處理劑，其是用于包括含鎢膜以及硅氧化膜的層疊膜的微細(xì)加工的微細(xì)加工處理劑，其特征在于，含有氟化氫、硝酸，以及氟化銨和氯化銨中的至少任意一種，

在25℃對(duì)所述含鎢膜的蝕刻速度為0.5～5000nm/分的范圍以內(nèi)，并且，在25℃對(duì)所述硅氧化膜的蝕刻速度為在25℃對(duì)所述含鎢膜的蝕刻速度的0.5～2倍的范圍以內(nèi)，

在所述氟化氫的含量為X摩爾/kg、硝酸的含量為Y摩爾/kg、至少含有氟化銨以及氯化銨中任意一種的含量為Z摩爾/kg時(shí)，所述X，Y以及Z滿足下述關(guān)系式，

[數(shù)學(xué)式1]

Z≦1.25Y-1.75????????(1)

Z>1.4Y-3???????(2)

Z≦-0.973Y+0.108×(100-4X)?????????????????(3)

5≦X≦10、Y>0、0<Z≦6???????????(4)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微細(xì)加工處理劑，其特征在于，所述含鎢膜以選自鎢、鈦鎢、銅鎢、鎳鎢、鈷鎢、鉬鎢、鎢硅化物、氮化鎢中的至少1種作為主成分。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微細(xì)加工處理劑，其特征在于，所述硅氧化膜是選自熱硅氧化膜、沒(méi)有摻雜的硅酸鹽玻璃膜、摻雜磷的硅酸鹽玻璃膜、摻雜硼的硅酸鹽玻璃膜、摻雜磷硼的硅酸鹽玻璃膜、TEOS膜、含有氟的硅氧化膜、含有碳的硅氧化膜、氧氮化硅膜、自然氧化膜中的1種的單層膜或者任意地選擇2種以上的層疊膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微細(xì)加工處理劑，其特征在于，在25℃對(duì)所述硅氧化膜的蝕刻速度為0.5～5000nm/分的范圍以內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微細(xì)加工處理劑，其特征在于，含有0.001重量％～0.1重量％的表面活性劑。

6.一種微細(xì)加工處理方法，其特征在于，使用權(quán)利要求1所述的微細(xì)加工處理劑，對(duì)含鎢膜以及硅氧化膜的至少任意一方進(jìn)行微細(xì)加工。