[發(fā)明專利]微電子設備內(nèi)鈷和鎳的化學鍍覆

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200580043443.8
• 申請日: 2005-10-18
• 公開（公告）號: CN101080280A
• 公開（公告）日: 2007-11-28
• 發(fā)明（設計）人: 查爾斯·瓦爾維德;尼科萊·彼得羅夫;埃里克·亞克比森;陳青云;文森特·小·派納卡西奧;理查德·荷特比斯;克里司汀·威特
• 申請（專利權）人: 恩索恩公司
• 主分類號: B05D1/18
• 分類號: B05D1/18;B05D5/12;C09D5/00
• 代理公司: 北京金之橋知識產(chǎn)權代理有限公司
• 代理人: 梁朝玉

1、一種將金屬鍍覆層鍍覆在微電子設備中金屬填縫交互連接部上的化學鍍覆溶液，該溶液包括：

一種選自鈷離子源和鎳離子源構成的離子源組中的淀積離子源；

一種還原劑；以及

一定濃度的肼基均化劑，在化學淀積組合物中獲得的肼濃度為約0.01-1000ppm。

2、一種將金屬鍍覆層鍍覆在微電子設備中金屬填縫交互連接部上的化學鍍覆溶液，該溶液包括：

一種選自鈷離子源和鎳離子源構成的離子源組中的淀積離子源；

一種還原劑；以及

一定濃度的肼基均化劑；

其中該溶液的pH值約為7.5-10。

3、如權利要求1的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑有一定的濃度，能夠在化學淀積組合物中獲得的肼濃度為約1-200ppm。

4、如權利要求1的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑有一定的濃度，能夠在化學淀積組合物中獲得的肼濃度為約10-20ppm。

5、如權利要求1的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自肼和肼衍生物，其中在擴散時將肼和肼衍生物引入化學鍍覆組合物。

6、如權利要求1的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自水合肼、硫酸肼、鹽酸肼、溴化肼、二鹽酸肼、二氫溴化肼和酒石酸肼。

7、如權利要求1的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑是肼衍生物，其中肼衍生物形成肼，在化學鍍覆組合物中作為反應產(chǎn)物。

8、如權利要求1的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自二肼嘧啶、水合苯、苯基肼、肼-N、N二醋酸、1，2二乙醛肼、單甲基肼、1，1二甲肼、1，2二甲肼、4-肼苯硫磺基酸、肼羥基酸、2-肼乙醇、氨基尿、碳酰肼、氨基胍氫氯化物、1，3二氨基胍鹽酸化合物和三氨基胍鹽酸化合物。

9、如權利要求2的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自肼和肼衍生物，其中肼和肼衍生物在分解時將游離肼引入化學鍍覆組合物中。

10、如權利要求2的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自水合肼、硫酸肼、鹽酸肼、溴化肼、二鹽酸肼、二氫溴化肼和酒石酸肼。

11、如權利要求2的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑是肼衍生物，其中肼衍生物形成肼，在化學鍍覆組合物中作為反應產(chǎn)物。

12、如權利要求2的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自二肼嘧啶、水合苯、苯基肼、肼-N、N二醋酸、1，2二乙醛肼、單甲基肼、1，1二甲肼、1，2二甲肼、4-肼苯硫磺基酸、肼羥基酸、2-肼乙醇、氨基尿、碳酰肼、氨基胍氫氯化物、1，3二氨基胍鹽酸化合物和三氨基胍鹽酸化合物。

13、如權利要求3的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自肼和肼衍生物，其中肼和肼衍生物在分解時將游離肼引入化學鍍覆組合物中。

14、如權利要求3的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自水合肼、硫酸肼、鹽酸肼、溴化肼、二鹽酸肼、二氫溴化肼和酒石酸肼。

15、如權利要求3的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑是肼衍生物，其中肼衍生物形成肼，在化學鍍覆組合物中作為反應產(chǎn)物。

16、如權利要求3的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自二肼嘧啶、水合苯、苯基肼、肼-N、N二醋酸、1，2二乙醛肼、單甲基肼、1，1二甲肼、1，2二甲肼、4-肼苯硫磺基酸、肼羥基酸、2-肼乙醇、氨基尿、碳酰肼、氨基胍氫氯化物、1，3二氨基胍鹽酸化合物和三氨基胍鹽酸化合物。

17、如權利要求4的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自肼和肼衍生物，其中肼和肼衍生物在分解時將游離肼引入化學鍍覆組合物中。

18、如權利要求4的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自水合肼、硫酸肼、鹽酸肼、溴化肼、二鹽酸肼、二氫溴化肼和酒石酸肼。

19、如權利要求4的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑是肼衍生物，其中肼衍生物形成肼，在化學鍍覆組合物中作為反應產(chǎn)物。

20、如權利要求4的化學鍍覆溶液，其中肼基均化劑選自二肼嘧啶、水合苯、苯基肼、肼-N、N二醋酸、1，2二乙醛肼、單甲基肼、1，1二甲肼、1，2二甲肼、4-肼苯硫磺基酸、肼羥基酸、2-肼乙醇、氨基尿、碳酰肼、氨基胍氫氯化物、1，3二氨基胍鹽酸化合物和三氨基胍鹽酸化合物。