[發(fā)明專利]光蝕刻用清洗液及抗蝕圖案的形成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200580042542.4
• 申請日: 2005-11-29
• 公開（公告）號: CN101076759A
• 公開（公告）日: 2007-11-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 澤田佳宏;脅屋和正;越山淳;宮本敦史;田島秀和
• 申請（專利權(quán)）人: 東京應(yīng)化工業(yè)株式會社
• 主分類號: G03F7/32
• 分類號: G03F7/32;H01L21/027
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 張平元;趙仁臨

1.一種包含水性溶液的液體在光蝕刻中作為清洗液的用途，所述水性溶液含有至少一種下述通式所示的氧化胺化合物：

[化學(xué)式1]

式中的R¹為可被氧原子中斷的碳原子數(shù)8～20的烷基或羥烷基；R²及R³為碳原子數(shù)1～5的烷基或羥烷基。

2.權(quán)利要求1所述的用途，其中，通式中的R²及R³為碳原子數(shù)1～5的烷基。

3.權(quán)利要求1所述的用途，其中，通式中的R²及R³為碳原子數(shù)1～5的羥烷基。

4.權(quán)利要求1所述的用途，其中，水性溶液是以水作為溶劑的水性溶液。

5.權(quán)利要求1所述的用途，其中，水性溶液以水和水混溶性有機(jī)溶劑的混合物為溶劑。

6.權(quán)利要求5所述的用途，其中，水混溶性有機(jī)溶劑為一元或多元醇類有機(jī)溶劑。

7.權(quán)利要求5或6所述的用途，其中，溶劑中的水混溶性有機(jī)溶劑的含有比例為0.01～10質(zhì)量％的范圍。

8.權(quán)利要求1所述的用途，其中，氧化胺化合物的濃度，相對于所述包含水性溶液的液體的總質(zhì)量，為0.1ppm～10質(zhì)量％的范圍。

9.權(quán)利要求8所述的用途，其中，氧化胺化合物的濃度，相對于所述包含水性溶液的液體的總質(zhì)量，為100ppm～3質(zhì)量％。

10.權(quán)利要求1所述的用途，其中，除氧化胺化合物以外，所述包含水性溶液的液體還含有相對于該液體總質(zhì)量為0.001～5質(zhì)量％的比例的選自聚氧亞烷基二醇及其烷基醚中的化合物。

11.權(quán)利要求1所述的用途，其中，除氧化胺化合物以外，所述包含水性溶液的液體還含有相對于該液體總質(zhì)量為0.1ppm～10質(zhì)量％的濃度的分子結(jié)構(gòu)中含氮原子的可溶性聚合物。