[發明專利]成型部件的表面的激光凈化無效
| 申請號: | 200580041874.0 | 申請日: | 2005-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN101123999A | 公開(公告)日: | 2008-02-13 |
| 發明(設計)人: | B·特科;M·菲舍爾 | 申請(專利權)人: | 通用核材料公司 |
| 主分類號: | A61L2/10 | 分類號: | A61L2/10 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人: | 王永建 |
| 地址: | 法國韋利濟*** | 國省代碼: | 法國;FR |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成型 部件 表面 激光 凈化 | ||
1.一種用于成型部件(3)的表面的激光凈化的方法,其特征在于,其包括以下步驟:
-連續地使成型部件(3)的表面部分經受脈沖激光束(39,40,43,44)的沖擊,其中所述激光束的波長處于紫外線范圍中,并且通過所述激光束可使所述成型部件的表面層被燒蝕為微粒,所述激光束被分布成同時覆蓋每個被處理部分;
-通過抽吸回收所述微粒。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述激光束(39,40,43,44)通過分離主激光束(30)獲得并具有相等的能量。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述分離激光束中的每一個從其由主激光束分離開始沿相等長度的軌跡行進。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法,其特征在于,所述微粒的回收通過過濾所述微粒實施。
5.一種用于成型部件的表面的激光凈化的裝置,其特征在于,其包括:
-處理腔室(1),其設有用于所述成型部件(3)的通孔(2),通過所述通孔(2),所述成型部件的表面部分可連續地到達處理區域(4),所述處理腔室(1)還包括光路(11,12,13,14),其提供用于脈沖激光束的通路,其中所述激光束的波長處于紫外線范圍中,并且通過所述激光束可使所述成型部件的表面層被燒蝕為微粒,所述光路(11,12,13,14)被分布成同時覆蓋所述成型部件(3)的表面的每個被處理部分,所述處理腔室(1)還包括用于回收所述微粒的抽吸裝置;
-用于將所述激光束傳送至所述處理腔室的裝置。
6.根據權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述抽吸裝置包括用于引入氣體射流(6,9)的裝置,其被設置成使得氣體在到達所述處理區域之前經由所述光路(11,12,13,14)進行輸送,隨后其朝向一用于收集所述微粒的腔室(7)被引導。
7.根據權利要求5所述的裝置,其特征在于,所述收集腔室(7)包括用于過濾所述微粒的裝置。
8.根據權利要求6或7的裝置,其特征在于,所述光路(11,12,13,14)包括用于保持所述微粒的裝置,以保持可能沿氣體射流的相反方向流動的燒蝕微粒。
9.根據權利要求5至8中任一項所述的裝置,其特征在于,所述光路(11,12,13,14)為設有朝向所述裝置(1)的外部的密封窗(21,22,23,24)并提供用于所述激光束的通路的管道。
10.根據權利要求5至9中任一項所述的裝置,其特征在于,所述用于傳送所述激光束的裝置包括用于分離主激光束以獲得具有相等能量的所述激光束的裝置。
11.根據權利要求10所述的裝置,其特征在于,所述用于分離主激光束的裝置包括光纖束(50,51,52,53,54)。
12.根據權利要求10所述的裝置,其特征在于,所述用于分離主激光束的裝置包括半反射鏡(32,37,38)和全反射鏡(35,36,41,42,45,46)。
13.根據權利要求10至12中任一項所述的裝置,其特征在于,所述用于分離主激光束的裝置為提供沿相等軌跡行進的激光束的裝置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于通用核材料公司,未經通用核材料公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200580041874.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:處理高濃縮倍數循環水的復合緩蝕阻垢劑
- 下一篇:成像系統及投影裝置





