[發(fā)明專利]用于通過結(jié)合探測(cè)和無接觸整體測(cè)量而測(cè)量鏡片的光焦度的方法和設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200580041544.1 | 申請(qǐng)日: | 2005-11-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101069081A | 公開(公告)日: | 2007-11-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | F·迪沃 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 埃西勒國際通用光學(xué)公司 |
| 主分類號(hào): | G01M11/02 | 分類號(hào): | G01M11/02 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 | 代理人: | 楊曉光;李崢 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 通過 結(jié)合 探測(cè) 接觸 整體 測(cè)量 鏡片 光焦度 方法 設(shè)備 | ||
1.一種用于在測(cè)量點(diǎn)測(cè)量鏡片的局部頂焦度的方法,所述方法包括: 將鏡片放置在支架上的步驟;以及無接觸地光學(xué)測(cè)量在圍繞所述鏡片的所 述測(cè)量點(diǎn)而限定的局部區(qū)域中的所述鏡片的焦點(diǎn)位置的局部值的步驟,所 述方法的特征在于,還包括:至少一個(gè)通過與所述支架不同的探測(cè)器裝置 探測(cè)所述鏡片的步驟,在此期間,確定在所述鏡片的表面之一上的所述測(cè) 量點(diǎn)的軸向位置;以及,將通過探測(cè)而獲得的所述測(cè)量點(diǎn)的軸向位置與從 所述無接觸地光學(xué)測(cè)量確定的在所述測(cè)量點(diǎn)的鏡片的焦點(diǎn)位置的局部值結(jié) 合,以便推導(dǎo)出在所述測(cè)量點(diǎn)的所述鏡片的至少一個(gè)頂焦度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中,光學(xué)測(cè)量所述鏡片的焦點(diǎn)位置的局 部值包括:
整體光學(xué)測(cè)量步驟,在此期間,在圍繞所述鏡片的多個(gè)點(diǎn)的多個(gè)局部 區(qū)域測(cè)量所述焦點(diǎn)位置的局部值,所述鏡片的多個(gè)點(diǎn)包括關(guān)注的測(cè)量點(diǎn)和 其他點(diǎn);
選擇步驟,用于選擇對(duì)于所述鏡片的期望的測(cè)量點(diǎn);以及
推導(dǎo)步驟,用于從所述整體光學(xué)測(cè)量推導(dǎo)出在所述鏡片的所述測(cè)量點(diǎn) 的焦點(diǎn)位置的局部值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中,所述探測(cè)器裝置在鏡片的至少一個(gè) 基本軸向的方向上可相對(duì)于所述支架移動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的方法,其中,所述探測(cè)器裝置還在所述鏡片的基 本橫向方向上可移動(dòng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中,在所述鏡片的后表面上探測(cè)所述測(cè) 量點(diǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中:
在所述測(cè)量步驟期間,確定在所述鏡片的測(cè)量點(diǎn)的鏡片的頂焦度的近 似值;以及
根據(jù)通過探測(cè)獲得的所述測(cè)量點(diǎn)的位置,校正通過測(cè)量獲得的所述鏡 片的頂焦度的近似值。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其中,所述鏡片的測(cè)量點(diǎn)的軸向位置是用 于確定在所述測(cè)量點(diǎn)的頂焦度的鏡片的測(cè)量點(diǎn)的唯一幾何特性。
8.一種用于自動(dòng)制備要安裝的鏡片的方法,所述方法包括根據(jù)在前的 權(quán)利要求中任一項(xiàng)的方法,并且還包括在切除裝置(6)上阻滯所述鏡片的 步驟和切割所述鏡片的步驟,對(duì)所述鏡片的探測(cè)包括在所述切除裝置上阻 滯所述鏡片之前的第一探測(cè)步驟。
9.一種用于在測(cè)量點(diǎn)測(cè)量鏡片(L1,L2,L3)的局部頂焦度的設(shè)備, 所述設(shè)備包括:無接觸光學(xué)測(cè)量裝置(5),其適于發(fā)送這樣的信號(hào),所述 信號(hào)至少表示在圍繞所述鏡片的所述測(cè)量點(diǎn)而限定的局部區(qū)域上的所述鏡 片的焦點(diǎn)位置的局部值;以及電子和計(jì)算機(jī)處理器系統(tǒng)(100),其適于處 理由所述無接觸光學(xué)測(cè)量裝置(5)發(fā)送的所述信號(hào),并且所述設(shè)備的特征 在于:其還包括用于接納所述鏡片的支架和探測(cè)器裝置(7),所述探測(cè)器 裝置(7)不同于所述支架并用于探測(cè)所述鏡片,并且適于確定在所述鏡片 的表面之一上的所述測(cè)量點(diǎn)的軸向位置;以及,所述電子和計(jì)算機(jī)處理器 系統(tǒng)(100)包括計(jì)算指令,用于將通過探測(cè)而獲得的所述測(cè)量點(diǎn)的軸向位 置與由所述電子和計(jì)算機(jī)處理器系統(tǒng)(100)根據(jù)由所述無接觸光學(xué)測(cè)量裝 置(5)發(fā)送的所述信號(hào)而確定的在所述測(cè)量點(diǎn)的鏡片的所述焦點(diǎn)位置的局 部值結(jié)合,以從其推導(dǎo)出在所述測(cè)量點(diǎn)的所述鏡片的至少一個(gè)頂焦度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的設(shè)備,其中,所述無接觸光學(xué)測(cè)量裝置(5)適 于發(fā)送這樣的信號(hào),所述信號(hào)表示整體光學(xué)測(cè)量,所述整體光學(xué)測(cè)量具有 在圍繞所述鏡片的多個(gè)點(diǎn)的多個(gè)局部區(qū)域上的焦點(diǎn)位置的局部值,所述多 個(gè)點(diǎn)包括關(guān)注的測(cè)量點(diǎn)和其他點(diǎn),所述電子和計(jì)算機(jī)處理器系統(tǒng)(100)適 于處理由所述無接觸光學(xué)測(cè)量裝置(5)發(fā)送的所述信號(hào),以選擇所述鏡片 的期望的測(cè)量點(diǎn),以從所述整體光學(xué)測(cè)量推導(dǎo)出在所述鏡片的所述測(cè)量點(diǎn) 的所述焦點(diǎn)位置的局部值。
11.根據(jù)權(quán)利要求9的設(shè)備,其中所述探測(cè)器裝置在所述鏡片的至少 一個(gè)基本軸向的方向上可相對(duì)于所述支架移動(dòng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的設(shè)備,其中,所述探測(cè)器裝置(7)還在所述 鏡片的基本橫向的方向上可移動(dòng)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于埃西勒國際通用光學(xué)公司,未經(jīng)埃西勒國際通用光學(xué)公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200580041544.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:包皮圓木棒
- 下一篇:基于乘法器的單端本振輸入的MOS混頻器
- 同類專利
- 專利分類





