[發明專利]具有可旋轉襯底基座的物理氣相沉積室

無效

• 申請號: 200580041193.4
• 申請日: 2005-11-07
• 公開（公告）號: CN101068948A
• 公開（公告）日: 2007-11-07
• 發明（設計）人: 伊利亞·拉維特斯凱;邁克爾·羅森斯坦;吉富吾一;洪宮·王;振東·劉;葉夢奇
• 申請（專利權）人: 應用材料股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司
• 代理人: 徐金國;陳紅

1.一種物理氣相沉積室，包括：

室體；

濺射靶；以及

可旋轉襯底基座，與所述濺射靶相對地設置在所述室體內部空間中。

2.根據權利要求1所述的室，其特征在于，所述襯底基座與適于旋轉所述基座的磁驅動聯接。

3.根據權利要求2所述的室，其特征在于，所述磁驅動還包括與貫穿所述室體延伸至所述襯底基座的柱狀體聯接的至少一個磁元件。

4.根據權利要求1所述的室，其特征在于，還包括：

適于控制所述基座在所述室體中的提升的驅動。

5.根據權利要求1所述的室，其特征在于，還包括：

與所述室體聯接并且朝向所述基座向內和向下延伸的護罩。

6.根據權利要求5所述的室，其特征在于，還包括：

設置在所述護罩下方的所述室體的區域中的至少一個襯底加熱元件。

7.根據權利要求5所述的室，其特征在于，所述護罩與所述基座交錯。

8.根據權利要求7所述的室，其特征在于，所述襯底基座還包括：

環形周邊向上面對的溝槽。

9.根據權利要求8所述的室，其特征在于，所述護罩還包括：

當所述基座處于上升位置時，與所述基座的所述溝槽咬合的內唇緣。

10.根據權利要求1所述的室，其特征在于，所述襯底基座還包括：

襯底支撐表面；以及

延伸自所述支撐表面并且限定出襯底容納托的環形周邊緣。

11.根據權利要求1所述的室，其特征在于，所述襯底基座還包括：

襯底支撐表面；以及

設置在所述支撐表面中的至少一個聚合物部件。

12.根據權利要求5所述的室，其特征在于，所述襯底基座還包括：

適于與所述護罩咬合的可移除部分。

13.根據權利要求1所述的室，其特征在于，所述襯底基座還包括：

基本上與所述濺射靶的濺射表面平行的襯底支撐表面。

14.根據權利要求1所述的室，其特征在于，所述襯底基座還包括：

以相對于所述濺射靶的濺射表面成大于0到45度的角度設置的襯底支撐表面。

15.一種物理氣相沉積室，包括：

室體；

設置在所述室體上的靶；

設置在所述室體中的襯底基座；

與所述襯底基座聯接并適于旋轉所述襯底基座的第一驅動；以及

與所述室體中的所述基座聯接并且適于控制所述基座的提升的第二驅動。

16.根據權利要求15所述的室，其特征在于，所述基座還包括：

限定出圍繞所述基座周邊的溝槽的向上延伸的指狀部件。

17.根據權利要求16所述的室，其特征在于，還包括：

護罩，在外部上邊緣與所述室體聯接并且具有可選擇地咬合所述溝槽的內部下邊緣。

18.根據權利要求17所述的室，其特征在于，所述靶可以多重處理方向重新定位。

19.根據權利要求17所述的室，其特征在于，所述向上延伸的指狀部件可從所述基座處拆除。

20.根據權利要求18所述的室，其特征在于，所述靶與所述基座的上襯底支撐表面不平行。