[發明專利]用于等離子體處理系統中控制多區噴嘴的耐腐蝕設備

無效

• 申請號: 200580040567.0
• 申請日: 2005-09-23
• 公開（公告）號: CN101087900A
• 公開（公告）日: 2007-12-12
• 發明（設計）人: 郝方禮;約翰·E·多爾蒂;詹姆斯·塔潘
• 申請（專利權）人: 朗姆研究公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;H01L21/3065
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 余剛;尚志峰

1.一種等離子體處理系統中的集成氣體流量控制組件，用于將氣體分配系統連接至多區注入器，其包括：

第一通道組，用于將所述氣體分配系統連接至具有第一流速的第一閥組件、具有第二流速的第二閥組件、具有第三流速的第三流量組件、以及具有第四流速的第四流量組件，其中，當所述第一閥組件基本上打開時，所述第三流速小于所述第一流速，以及當所述第二閥組件基本上打開時，所述第四流速小于所述第二流速；

第二通道組，用于將所述第三流量組件和所述第一閥組件連接至第一多區注入器區；

第三通道組，用于將所述第四流量組件和所述第二閥組件連接至第二多區注入器區；

其中，如果所述第一閥組件閉合，則第一多區注入器區流速約為所述第三流速，以及如果所述第二閥組件閉合，則第二多區注入器區流速約為所述第四流速。

2.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述第一閥組件和所述第二閥組件中的每個均包括可變流量閥組件。

3.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述第一閥組件和所述第二閥組件中的每個均包括不可變流量閥組件。

4.根據杈利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述第一閥組件和所述第二閥組件位于所述集成氣體流量控制組件的第一配件中，以及所述第三流量組件和所述第四流量組件基本上位于所述集成氣體流量控制組件的第二配件中。

5.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述集成氣體流量控制組件包含陶瓷。

6.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述集成氣體流量控制組件包含塑料。

7.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述集成氣體流量控制組件包含Dupont?Vespel。

8.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述集成氣體流量控制組件包含鎳基合金。

9.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述集成氣體流量控制組件包含不銹鋼。

10.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述集成氣體流量控制組件位于等離子體處理系統的下室中。

11.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述集成氣體流量控制組件對RF場是基本上透明的。

12.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述等離子體處理系統是電容性耦合等離子體處理系統。

13.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述等離子體處理系統是感應耦合等離子體處理系統。

14.根據權利要求1所述的集成氣體流量控制組件，其中，所述等離子體處理系統是大氣等離子體處理系統。

15.一種在等離子體處理系統中的塑料集成氣體流量控制組件，用于將氣體分配系統連接至多區注入器并且對RF場是基本上透明的，所述塑料集成氣體流量控制組件包括：

第一通道組，用于將所述氣體分配系統連接至具有第一流速的第一閥組件、具有第二流速的第二閥組件、具有第三流速的第三流量組件、以及具有第四流速的第四流量組件，其中，當所述第一閥組件基本上打開時，所述第三流速小于所述第一流速，并且當所述第二閥組件基本上打開時，所述第四流速小于所述第二流速；

第二通道組，用于將所述第三流量組件和所述第一閥組件連接至第一多區注入器區；

第三通道組，用于將所述第四流量組件和所述第二閥組件連接至第二多區注入器區；

其中，如果所述第一閥組件閉合，則第一多區注入器區流速約為所述第三流速，以及如果所述第二閥組件閉合，則第二多區注入器區流速約為所述第四流速。