[發明專利]光刻方法

有效

• 申請號: 200580040129.4
• 申請日: 2005-11-10
• 公開（公告）號: CN101137938A
• 公開（公告）日: 2008-03-05
• 發明（設計）人: 戴維·范斯騰溫克爾;彼得·贊德伯根
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;G03F7/32
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 陳瑞豐

1.一種光刻形成圖案的方法，包括：

將光致抗蝕劑(18)涂到將要形成圖案的表面上；

使用光輻射通過掩模圖案(12)對光致抗蝕劑(18)進行曝光，并且執行曝光后烘烤，其中，利用增加光學曝光，光致抗蝕劑(18)經過中間極性階段從非極性變為有極性，反之亦然，曝光步驟導致具有極性區(24)、非極性區(26)和中間極性區(22)的光致抗蝕劑；以及

對光致抗蝕劑(18)進行顯影，以從中間極性區(22)或從極性區和非極性區(24，26)兩者上去除光致抗蝕劑，在除了中間極性區(22)或極性區和非極性區(24、26)兩者的其它區域中留下光致抗蝕劑。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，顯影步驟包括使用光致抗蝕劑極性在其非極性和極性區之間的中間極性的顯影劑，對光致抗蝕劑進行顯影，以擇優地溶解中間極性(22)的光致抗蝕劑，在將要形成圖案的表面上留下光致抗蝕劑的極性區和非極性區(24、26)。

3.根據任一前述權利要求所述的方法，其中，中間極性的顯影劑是丙二醇醋酸甲乙酯。

4.根據權利要求2或3所述的方法，其中，處于中間極性狀態的光致抗蝕劑(22)和中間極性的顯影劑具有彼此足夠接近的Hildebrand內聚能量密度，使得中間極性狀態的光致抗蝕劑在中間極性的顯影劑中溶解。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，對光致抗蝕劑進行顯影的步驟包括：

使用高極性的顯影劑對光致抗蝕劑進行顯影，以溶解極性區(24)中的光致抗蝕劑；以及

在使用高極性顯影劑之前或之后，使用低極性顯影劑對光致抗蝕劑進行顯影，以溶解非極性區(26)中的光致抗蝕劑；

在將要形成圖案的表面上留下中間極性區(22)中的光致抗蝕劑。

6.根據任一前述權利要求所述的方法，其中，在對光致抗蝕劑進行曝光的步驟中，通過第一預定間距(p₁)的跨越將要形成圖案的表面限定光調制的掩模圖案(10)，對光致抗蝕劑進行曝光；

其中，對光致抗蝕劑進行顯影的步驟導致具有實質為第一預定間距(p₁)一半的第二預定間距(p₂)的光致抗蝕劑。

7.根據任一前述權利要求所述的方法，其中，所述光致抗蝕劑(18)是酸催化型的。