[發明專利]磁性石榴石單晶及使用其的光學元件和單晶的制造方法有效
| 申請號: | 200580039676.0 | 申請日: | 2005-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN101061263A | 公開(公告)日: | 2007-10-24 |
| 發明(設計)人: | 大井戶敦 | 申請(專利權)人: | TDK株式會社 |
| 主分類號: | C30B29/28 | 分類號: | C30B29/28;C30B19/00;G02F1/09 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孫秀武;李平英 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁性 石榴石 使用 光學 元件 制造 方法 | ||
1.一種磁性石榴石單晶,其特征為,
該磁性石榴石單晶是通過液相外延生長法生長得到的,
用化學式BixNayPbzM13-x-y-zFe5-wM2wO12表示,
式中的M1表示從Y、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu中選出的至少1種以上元素,M2表示從Ga、Al、In、Ti、Ge、Si、Pt中選出的至少1種以上元素,0.5<x≤2.0、0<y≤0.8、0≤z<0.01、0.19≤3-x-y-z<2.5、0≤w≤1.6。
2.如權利要求1所述的磁性石榴石單晶,其中,上述y為0<y≤0.05。
3.由權利要求1或2所述的磁性石榴石單晶形成的光學元件。
4.一種磁性石榴石單晶的制造方法,其特征為,生成含Na的熔融液,使用上述熔融液通過液相外延生長法生長磁性石榴石單晶。
5.一種石榴石單晶的制造方法,其特征為,生成含有B、Na及Bi、而且Na的配合率ymol%與Bi的配合率zmol%滿足0<y/(y+z)≤0.41的溶液,使用上述溶液生長石榴石單晶。
6.一種石榴石單晶的制造方法,其特征為,生成含有B、Na及Bi、并且B的配合率xmol%、Na的配合率ymol%與Bi的配合率zmol%滿足0<y/(y+z)≤0.0143x+0.24的溶液,使用上述溶液生長石榴石單晶。
7.如權利要求6所述的石榴石單晶的制造方法,其中,上述配合率x為2.0mol%以上、12.0mol%以下。
8.一種石榴石單晶的制造方法,其特征為,生成含有B、Na及Bi、并且B的配合率x為2.0mol%以上12.0mol%以下的溶液,使用上述溶液生長石榴石單晶。
9.一種磁性石榴石單晶的制造方法,其特征為,在含Na、Bi及B的溶劑中以9.0mol%以上25.5mol%以下的配合率溶解Fe、Ga及Al中包含Fe的至少一種元素,生成溶液,使用上述溶液生長磁性石榴石單晶。
10.一種磁性石榴石單晶的制造方法,其特征為,在含Na、Bi及B的溶劑中溶解Fe、Ga及Al中包含Fe的至少一種元素,生成溶液,使用上述溶液在600℃以上900℃以下的生長溫度下生長磁性石榴石單晶。
11.一種磁性石榴石單晶的制造方法,其特征為,在含Na、Bi及B的溶劑中以配合率xmol%溶解Fe、Ga及Al中包含Fe的至少一種元素,生成溶液,使用上述溶液,在滿足436+18.2x≤y≤555+18.2x的生長溫度y℃下生長磁性石榴石單晶。
12.如權利要求11所述的磁性石榴石單晶的制造方法,其特征為,上述配合率x在9.0mol%以上,上述生長溫度y在900℃以下。
13.如權利要求9~12中的任一項所述的磁性石榴石單晶的制造方法,其特征為,上述溶液是在Au制的坩堝內生成的。
14.一種權利要求1所述的磁性石榴石單晶的制造方法,其特征為,將含Na的材料填充到Au制的坩堝內,熔化上述材料生成熔融液,使用上述熔融液生長單晶。
15.如權利要求14所述的單晶的制造方法,其特征為,上述單晶在大氣壓中生長。
16.如權利要求14或15所述的單晶的制造方法,其特征為,上述材料還含有B。
17.如權利要求14~16中的任一項所述的單晶的制造方法,其特征為,上述單晶是稀土類鐵石榴石單晶。
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