[發明專利]聚焦掩模

無效

• 申請號: 200580039382.8
• 申請日: 2005-11-17
• 公開（公告）號: CN101084567A
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發明（設計）人: 德里克·安東尼·伊斯特漢
• 申請（專利權）人: NFAB有限公司
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 車文;鄭立

1.一種掩模，適用于粒子束源，包括在其中具有多個孔的孔板，每一個孔適于接收入射到孔板上的粒子束的一部分；以及聚焦裝置，它可被操作用于將所述粒子束的每一個所述部分聚焦到期望在其上進行寫入的材料表面上。

2.根據權利要求1的掩模，其中該聚焦裝置可被操作用于將粒子束的每一個部分聚焦成大致10nm或更小的直徑。

3.根據權利要求1或2的掩模，其中每一個板孔在20nm和200m之間的范圍內。

4.根據權利要求3的掩模，其中每一個板孔大致為1μm。

5.根據前面任何一項權利要求的掩模，其中該聚焦裝置包括多個隔開的導電元件，它們以與孔板平行布置的方式被設置在孔板之下，所述聚焦裝置具有延伸通過導電元件的多個聚焦孔，每一個聚焦孔相應于多個板孔中的一個并且與之共用縱向軸線，從而被該多個板孔的有關的一個所接收的粒子束的每一個部分進入相應的聚焦孔，通過該孔，該部分被聚焦到期望在其上進行寫入的材料的所述表面上。

6.根據權利要求5的掩模，其中每一個聚焦孔在20nm和200μm之間的范圍內。

7.根據權利要求6的掩模，其中每一個聚焦孔大致為3μm。

8.根據權利要求5到7的掩模，其中每一個聚焦孔大于相應的板孔。

9.根據權利要求5到8的掩模，其中該聚焦裝置包括三個隔開的導電元件。

10.根據權利要求5到9的掩模，其中每一個導電元件相對于它的相鄰導電元件被電偏壓。

11.根據權利要求5到10的掩模，其中導電元件利用與導電元件相互間隔的多個電絕緣體而被隔開。

12.一種直寫式粒子束設備，包括粒子束源和根據前面任一項權利要求的掩模。

13.根據權利要求11的直寫式粒子束設備，其中該粒子束源適于提供具有在20eV到100keV的范圍中的能量的入射到孔板上的粒子束。

14.根據權利要求12的直寫式粒子束設備，其中該粒子束源適于提供具有在150eV到5keV的范圍中的能量的入射到孔板上的粒子束。

15.根據權利要求12或13的直寫式粒子束設備，其中該粒子束發生器適于提供具有大致50eV的能量的入射到孔板上的粒子束。