[發(fā)明專利]氨基喹唑啉化合物無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580038248.6 | 申請日： | 2005-11-02 |
| 公開（公告）號： | CN101056865A | 公開（公告）日： | 2007-10-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 斯蒂文·約瑟夫·貝特爾;阿德里安·慧慶·張;克希蒂吉·查比爾波?！に_卡;員維亞 | 申請（專利權(quán)）人： | 霍夫曼－拉羅奇有限公司 |
| 主分類號： | C07D239/42 | 分類號： | C07D239/42;A61K31/517 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 王旭 |
| 地址： | 瑞士*** | 國省代碼： | 瑞士;CH |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 氨基 喹唑啉 化合物 | ||
1.式(I)的化合物
其中X為下式的基團X-1
或者X為下式的基團X-2
其中
R1和R2各自獨立地選自：氫，低級烷基，烷氧基低級烷基，和羥基低級烷基，除了R1和R2不能同時為氫以外；
R3，R4，R6和R7各自獨立地選自：氫，低級烷基，取代的低級烷基，低級烷氧基，取代的低級烷氧基，羥基，鹵素，低級烷硫基，低級烷基亞磺酰基，低級烷基磺酰基，氨基磺酰基，氰基，硝基，氨基甲?；?，低級烷基氨基甲?；?，低級烷?；?，芳酰基，芳基，芳氧基，芳基低級烷氧基，芳基低級鏈烯基，芳基低級炔基，低級鏈烯基，低級炔基，低級烷基氨基，取代的低級烷基氨基，低級烷?；被?，磺?；被h(huán)烷基，雜環(huán)烷基，雜環(huán)基氧基，雜環(huán)基羰基，羧基，低級烷氧基羰基，和下式的取代基：
R5選自：氫，低級烷基，低級烷氧基，烷氧基低級烷基，烷氧基低級烷氧基，羥基低級烷基，羥基，羥基烷氧基，鹵素，低級烷硫基，低級烷基亞磺?；?，低級烷基磺酰基，全氟低級烷基，低級烷?；减；?，芳基炔基，低級炔基和低級烷酰基氨基；
為含有1至2個選自氧、硫和氮的雜原子的5或6元雜芳族環(huán)；
R8和R9各自獨立地為氫，低級烷基，低級烷氧基，全氟低級烷基，鹵素，芳基低級烷基，芳基，或芳基低級烷氧基；
或其藥用鹽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的化合物，其中X為下式的基團X-1
或者X為下式的基團X-2
其中
R1和R2各自獨立地選自：氫，低級烷基，烷氧基低級烷基，和羥基低級烷基，除了R1和R2不能同時為氫以外；
R3，R4，R6和R7各自獨立地選自：氫，低級烷基，取代的低級烷基，低級烷氧基，烷氧基低級烷氧基，羥基，羥基烷氧基，鹵素，低級烷硫基，低級烷基亞磺酰基，低級烷基磺?；?，氨基磺?；杌趸轷；?，芳酰基，芳氧基，芳基低級烷氧基，芳基低級鏈烯基，芳基低級炔基，低級鏈烯基，低級炔基，低級烷基氨基，低級烷?；被?，磺酰基氨基，環(huán)烷基，雜環(huán)基，雜環(huán)基氧基，雜環(huán)基羰基，和下式的取代基：
R5選自：氫，低級烷基，低級烷氧基，烷氧基低級烷基，烷氧基低級烷氧基，羥基低級烷基，羥基，羥基烷氧基，鹵素，低級烷硫基，低級烷基亞磺?；?，低級烷基磺酰基，全氟低級烷基，烷?；减；?，芳基炔基，低級炔基和低級烷酰基氨基；
為含有1至2個選自氧、硫和氮的雜原子的5或6元雜芳族環(huán)；
R8和R9各自獨立地為氫，低級烷基，低級烷氧基，全氟低級烷基，鹵素，芳基低級烷基，芳基，或芳基低級烷氧基。
3.下式的根據(jù)權(quán)利要求1-2中任何一項的化合物：
其中R1，R2，R3，R4，R5，R6和R7如權(quán)利要求1或2中所定義，或其藥用鹽。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的化合物，其中R4，R5和R6各自獨立地為氫，鹵素，低級烷基，低級烷氧基，羥基，羥基低級烷基，低級烷硫基，低級烷基磺?；蛉图壨榛?。
5.根據(jù)權(quán)利要求3的化合物，其中只有R6為氫。
6.根據(jù)權(quán)利要求3的化合物，其中R6和只有R4或R6中的一個為氫。
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