[發明專利]含硅的TARC/阻擋層

有效

• 申請號: 200580037630.5
• 申請日: 2005-11-03
• 公開（公告）號: CN101084467A
• 公開（公告）日: 2007-12-05
• 發明（設計）人: 黃武松;S·D·伯恩斯;P·R·瓦拉納西
• 申請（專利權）人: 國際商業機器公司
• 主分類號: G03C1/76
• 分類號: G03C1/76
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 劉明海

1.在襯底上形成有圖案的材料層的方法，該方法包括：

提供在其表面上含有材料層的襯底；

在襯底上沉積光刻膠組合物以在材料層上形成光刻膠層；

在光刻膠層上施加頂部抗反射涂料和阻擋層材料，因此形成涂覆的襯底，頂部抗反射涂料和阻擋層材料包括至少一個含硅部分和至少一個含水堿溶性部分；

將涂覆的襯底成圖案方式曝露于成像輻射；

從涂覆的襯底上同時脫除頂部抗反射涂料和阻擋層材料和一部分光刻膠層，因此在材料層上形成有圖案的光刻膠層；和

轉移光刻膠層圖案到材料層上，

其中，所述含硅部分包括Si-Si、Si-C、Si-N或Si-O，且所述含水堿溶性部分選自羥基、羧酸、磺酰胺、二羧酸酰亞胺、N-羥基二羧酸酰亞胺、氨基、和亞氨基。

2.權利要求1的方法，其中抗反射涂覆和阻擋層材料的折光率為1.5-1.7。

3.權利要求1的方法，其中該聚合物進一步包括至少一個含氟部分。

4.權利要求1的方法，其中該含硅部分包括SiO。

5.權利要求4的方法，其中該聚合物是有機硅氧烷。

6.權利要求5的方法，其中該聚合物是有機硅倍半氧烷。

7.權利要求1的方法，其中該至少一個含水堿溶性部分是氟代醇。

8.權利要求7的方法，其中該氟代醇是三氟甲醇或六氟甲醇。

9.權利要求1的方法，其中該聚合物進一步包括至少一個酸不穩定部分。

10.權利要求1的方法，其中，所述頂部抗反射涂覆和阻擋層材料進一步包括至少一種選自如下的溶劑：1-丁醇、甲醇、乙醇、1-丙醇、乙二醇、1，2-丁二醇、1，3-丁二醇、1，4-丁二醇、1，2-丙二醇、1-甲基-2-丁醇、1-戊醇、2-戊醇、3-戊醇、1-己醇、2-己醇、3-己醇、1-庚醇、2-庚醇、3-庚醇、4-庚醇、2-甲基-1-戊醇、2-甲基-2-戊醇、2-甲基-3-戊醇、3-甲基-1-戊醇、3-甲基-2-戊醇、3-甲基-3-戊醇、4-甲基-1-戊醇、4-甲基-2-戊醇、2，4-二甲基-3-戊醇、3-乙基-2-戊醇、1-甲基環戊醇、2-甲基-1-己醇、2-甲基-2-己醇、2-甲基-3-己醇、3-甲基-3-己醇、4-甲基-3-己醇、5-甲基-1-己醇、5-甲基-2-己醇、5-甲基-3-己醇、4-甲基環己醇、和1，3-丙二醇。

11.權利要求6的方法，其中該聚合物包括至少一種具有如下結構的單體：

其中R₁包括含水堿溶性部分，和x是1-1.95，

12.權利要求11的方法，其中該含水堿溶性部分是氟代醇。

13.權利要求1的方法，其中聚合物包括至少一種具有如下結構的單體：

其中，每個R₂獨立地選自氟、氟化的線性或支化烷基、氟環烷基、氟芳基、和其任何組合；

每個A獨立地選自氧原子、硫原子、NR₃、線性或支化烷基、線性或支化氟烷基、環烷基或氟環烷基、和氟芳基；p是0或1；和

每個R₃獨立地選自氫、鹵素、線性或支化烷基、線性或支化的氟烷基、環烷基、氟環烷基、氟芳基、和其任何組合。

14.權利要求13的方法，其中R₂和R₃進一步包括氧、硫和氮的至少一個。

15.權利要求13的方法，其中至少一種單體選自：

16.權利要求11的方法，其中聚合物進一步包括至少一種具有如下結構的共聚單體：

其中R₄包括選自酸酐、酯、醚和醇的極性有機部分；和x是1-1.95。

17.權利要求16的方法，其中所述酯為內酯。

18.權利要求16的方法，其中該共聚單體選自