[發明專利]可變位置冷卻設備

無效

• 申請號: 200580037439.0
• 申請日: 2005-10-12
• 公開（公告）號: CN101053289A
• 公開（公告）日: 2007-10-10
• 發明（設計）人: 菲利普·E·圖瑪
• 申請（專利權）人: 3M創新有限公司
• 主分類號: H05K7/20
• 分類號: H05K7/20;G06F1/20
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 劉建功;車文

1.一種用來冷卻散熱部件的器件，包括：

基底；

膨脹室，它包括流體不可滲透的至少一個側壁，所述側壁限定可在第一體積和第二體積之間膨脹的封閉容積，所述側壁包括：固定到所述基底的近端、與所述近端相對的遠端、鄰近所述封閉容積的內表面以及與所述內表面相對的外表面；和

布置在所述封閉容積中的傳熱流體；

其中，當所述封閉容積從所述第一體積膨脹到所述第二體積時，所述遠端從鄰近所述基底的第一位置移動到第二位置。

2.如權利要求1所述的器件，還包括多個所述膨脹室。

3.如權利要求2所述的器件，還包括固定到所述多個膨脹室的所述遠端的活動部件。

4.如權利要求3所述的器件，還包括偏壓元件，在所述膨脹室的所述第一體積下，該偏壓元件與所述基底和所述活動部件協作以迫使所述遠端鄰近所述基底。

5.如權利要求1所述的器件，其中，在所述第二位置，所述遠端離開所述基底至少1厘米。

6.如權利要求1所述的器件，其中，在所述第二位置，所述遠端離開所述基底至少5厘米。

7.如權利要求1所述的器件，其中所述側壁包括波狀部分。

8.如權利要求7所述的器件，其中所述側壁包括適合用來顯示圖形的區域，該圖形當所述封閉容積處于所述第二體積時可見，且當所述封閉容積處于所述第一體積時隱藏。

9.如權利要求8所述的器件，其中所述圖形包括商標。

10.如權利要求7所述的器件，其中所述側壁包括當所述封閉容積處于所述第二體積時可見的幾何形狀。

11.如權利要求1所述的器件，其中，當所述封閉容積處于所述第一體積時，所述外表面鄰近所述基底。

12.如權利要求1所述的器件，其中，當所述封閉容積處于所述第二體積時，所述外表面暴露于包圍所述器件的周圍空氣。

13.如權利要求1所述的器件，其中所述膨脹室與所述散熱部件流體連通。

14.如權利要求1所述的器件，其中所述傳熱流體包括全氟化碳、氫氟烴、氫氟醚和氟化酮中的至少一種。

15.如權利要求1所述的器件，其中所述側壁包括聚合物薄膜、金屬箔和多層阻擋薄膜中的至少一種。

16.如權利要求1所述的器件，其中所述基底是計算機機箱。

17.一種包括根據權利要求1的器件的冷卻系統。

18.一種包括根據權利要求1的器件的計算機。

19.一種用來冷卻散熱部件的器件，包括：

基底；

活動部件，它可在第一位置和第二位置之間移動；

膨脹室，它包括固定到所述基底的近端和固定到所述活動部件的遠端；和

傳熱流體，該傳熱流體具有蒸汽壓力且布置在所述膨脹室內；

其中，隨著所述傳熱流體的所述蒸汽壓力變化，所述活動部件在所述第一位置和所述第二位置之間移動。

20.如權利要求19所述的器件，還包括多個所述膨脹室。

21.如權利要求20所述的器件，其中，在所述第二位置，所述膨脹室相互平行。

22.如權利要求19所述的器件，其中，在所述第二位置，所述遠端離開所述基底至少1厘米。

23.如權利要求19所述的器件，其中，在所述第二位置，所述遠端離開所述基底至少5厘米。

24.如權利要求19所述的器件，其中，當所述封閉容積處于所述第二體積時，所述外表面暴露于包圍所述器件的周圍空氣。

25.如權利要求19所述的器件，其中所述膨脹室與所述散熱部件流體連通。

26.如權利要求19所述的器件，其中所述傳熱流體包括全氟化碳、氫氟烴、氫氟醚和氟化酮中的至少一種。

27.如權利要求19所述的器件，其中所述側壁包括聚合物薄膜、金屬箔和多層阻擋薄膜中的至少一種。