[發(fā)明專(zhuān)利]信息處理裝置、存取裝置、記錄介質(zhì)、信息處理方法及信息處理程序

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200580037136.9
• 申請(qǐng)日: 2005-10-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101061536A
• 公開(kāi)（公告）日: 2007-10-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宮下晴旬;南野順一;中島鍵
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G11B7/004
• 分類(lèi)號(hào): G11B7/004;G11B7/007
• 代理公司: 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 汪惠民

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及對(duì)記錄介質(zhì)的特性信息進(jìn)行判別處理的信息處理裝置、具備該信息處理裝置的存取(access)裝置、利用該存取裝置進(jìn)行存取的記錄介質(zhì)、和其信息處理方法及信息處理程序。

背景技術(shù)

近年來(lái)，進(jìn)行著大容量的信息通信。其結(jié)果，與大容量的光盤(pán)相關(guān)的開(kāi)發(fā)正在不斷發(fā)展。光盤(pán)例如包括CD(Compact?Disc)、LD(Laser?Disc)、DVD(Digital?Versatile?Disc)。

光盤(pán)中，在形成了表示信息的凹凸圖案(例如凹坑(dot)、凹槽(groove))的透明基板上形成有由金屬薄膜(例如鋁)構(gòu)成的反射膜，通過(guò)檢測(cè)出光的反射大小(level)來(lái)進(jìn)行信息的再生。

在記錄型光盤(pán)中，通過(guò)記錄膜的相變化形成反射率不同的特性圖案。由于光盤(pán)裝置只要讀取非晶質(zhì)—結(jié)晶質(zhì)的反射率變化即可，所以，能夠簡(jiǎn)單地得到光盤(pán)裝置的光學(xué)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)。

光盤(pán)裝置通過(guò)檢測(cè)出多個(gè)記錄部和多個(gè)未記錄部之間的反射大小，來(lái)再生基于相變化而被記錄的信息。因此，光盤(pán)中存在著具有下述兩種特性的光盤(pán)，所述兩種特性是指：由多個(gè)記錄部反射的光的反射率比由多個(gè)未記錄部反射的光的反射率大的特性(LtoH特性)、和由多個(gè)記錄部反射的光的反射率比由多個(gè)未記錄部反射的光的反射率小的特性(HtoL特性)。

圖7表示形成于光盤(pán)的多個(gè)記錄標(biāo)記與光盤(pán)反射的光的反射大小的關(guān)系。圖7A表示在具有HtoL特性的光盤(pán)中形成的多個(gè)記錄標(biāo)記和由具有HtoL特性的光盤(pán)反射的光的反射大小的關(guān)系。圖7B表示在具有LtoH特性的光盤(pán)中形成的多個(gè)記錄標(biāo)記和由具有LtoH特性的光盤(pán)反射的光的反射大小的關(guān)系。

在具有HtoL特性的光盤(pán)(HtoL型光盤(pán))中，形成有光的反射率為1％左右的非晶質(zhì)部(記錄部：例如記錄標(biāo)記)。HtoL型光盤(pán)的結(jié)晶部(未記錄部：例如間隙(space))其光的反射率為15～25％。在具有LtoH特性的光盤(pán)(LtoH型光盤(pán))中，形成有光的反射率為20～30％的非晶質(zhì)部(記錄部：例如記錄標(biāo)記)。LtoH型光盤(pán)的結(jié)晶部(未記錄部：例如間隙)其光的反射率為3～10％(參照?qǐng)D7B)。

由于在HtoL型光盤(pán)中未記錄部的反射率大，所以，聚焦與追蹤容易，但由于光的平均反射率大，所以噪聲比LtoH型光盤(pán)大。

在LtoH型光盤(pán)中，由于光的平均反射率小，所以噪聲比HtoL型光盤(pán)小，但由于未記錄部的反射率小，所以聚焦與追蹤困難。

在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中記載了HtoL型光盤(pán)和LtoH型光盤(pán)相關(guān)的內(nèi)容。

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：特開(kāi)2003—323744號(hào)公報(bào)

但是，由于光盤(pán)裝置無(wú)法判別插入到光盤(pán)裝置的光盤(pán)是HtoL型光盤(pán)還是LtoH型光盤(pán)，所以，在將LtoH型光盤(pán)插入到對(duì)應(yīng)于HtoL型光盤(pán)的光盤(pán)裝置時(shí)、和將HtoL型光盤(pán)插入到對(duì)應(yīng)于LtoH型光盤(pán)的光盤(pán)裝置時(shí)，會(huì)產(chǎn)生以下(1)～(4)所示的問(wèn)題。

(1)由于HtoL型光盤(pán)和LtoH型光盤(pán)，其由記錄標(biāo)記反射的反射光的極性以及由間隙反射的反射光的極性相反，所以，在HtoL型光盤(pán)和LtoH型光盤(pán)中，邊緣檢測(cè)、不對(duì)稱(chēng)檢測(cè)或β值檢測(cè)中的檢測(cè)值的極性(正負(fù))相反。

(2)無(wú)法恰當(dāng)?shù)貦z測(cè)出光盤(pán)的缺陷部分(例如因附著于光盤(pán)的垃圾、污垢等而幾乎不反射光的部分)。

(3)無(wú)法在HtoL型光盤(pán)對(duì)應(yīng)的調(diào)制度測(cè)定方法中，以L(fǎng)toH型光盤(pán)為對(duì)象，適當(dāng)?shù)販y(cè)定調(diào)制度。

(4)在將LtoH型光盤(pán)插入到與HtoL型光盤(pán)對(duì)應(yīng)的裝置時(shí)，有時(shí)會(huì)超過(guò)裝置的LSI的動(dòng)態(tài)范圍的上限。這是因?yàn)長(zhǎng)toH型光盤(pán)中光的反射大小比HtoL型光盤(pán)中光的反射大小大。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明鑒于上述問(wèn)題而提出，其目的在于，提供一種與記錄介質(zhì)的反射特性(是HtoL型還是LtoH型的特性)無(wú)關(guān)，能夠恰當(dāng)?shù)靥幚碛涗浻谟?!-- SIPO -->錄介質(zhì)的信息的信息處理裝置、具備該信息處理裝置的存取裝置、通過(guò)該存取裝置而進(jìn)行存取的記錄介質(zhì)、和其信息處理方法以及信息處理程序。

本發(fā)明的信息處理裝置對(duì)記錄于記錄介質(zhì)的規(guī)定信息進(jìn)行處理，具備特性判別機(jī)構(gòu)和處理機(jī)構(gòu)。特性判別機(jī)構(gòu)判別記錄介質(zhì)的反射特性。處理機(jī)構(gòu)根據(jù)判別后的反射特性處理規(guī)定信息。這里，反射特性是指由記錄介質(zhì)的記錄完畢區(qū)域反射的光的反射率(下面稱(chēng)作第一反射率)比由記錄介質(zhì)的未記錄區(qū)域反射的光的反射率(下面稱(chēng)作第二反射率)大的第一特性、和第一反射率小于第二反射率的第二特性中的一方，所述處理機(jī)構(gòu)包括按照所判別出的所述反射特性，來(lái)調(diào)整所照射的所述光的反射大小的反射大小調(diào)整機(jī)構(gòu)。