[發(fā)明專(zhuān)利]特別用于制造電子微電路的成像或曝光設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200580036770.0 | 申請(qǐng)日： | 2005-10-25 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN101048692A | 公開(kāi)（公告）日： | 2007-10-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | R·海爾 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 薩甘安全防護(hù)公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G02B26/06 | 分類(lèi)號(hào)： | G02B26/06;G02B13/14;G02B26/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人： | 錢(qián)慰民 |
| 地址： | 法國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 法國(guó);FR |
| 權(quán)利要求書(shū)： | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū)： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 特別 用于 制造 電子 電路 成像 曝光 設(shè)備 | ||
【說(shuō)明書(shū)】：
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