[發明專利]已純化的聚合物材料以及純化聚合物材料的方法

有效

• 申請號: 200580035868.4
• 申請日: 2005-08-11
• 公開（公告）號: CN101068882A
• 公開（公告）日: 2007-11-07
• 發明（設計）人: 羅伯特·J·霍桑;克里斯琴·利茨奧;馬修·F·尼邁耶;繆孔德·帕撒薩拉西
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: C08L71/00
• 分類號: C08L71/00;C08L25/06;D01D1/10;B29D17/00;B29K71/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 封新琴;巫肖南

相關申請的交叉引用?

本申請是2004年8月19日提交的美國專利申請10/922,194的部分繼續申請，該申請是2003年8月26日提交的美國專利申請10/648,604的部分繼續申請，它們全都通過引用整體并入本文。?

背景技術

本文公開的是涉及通過使包含聚(亞芳基醚)(poly(arylene?ether))和/或聚(鏈烯基芳族化合物)樹脂(poly(alkenyl?aromatic)resin)的熔體過濾而純化聚合物材料的方法。所述方法更具體地涉及過濾包含聚(亞芳基醚)樹脂、聚(鏈烯基芳族化合物)樹脂或聚(亞芳基醚)樹脂和聚(鏈烯基芳族化合物)樹脂組合的熔體，從而得到微粒雜質含量減少的經過濾的聚合物材料。?

光、磁和磁光介質是高性能存儲技術的主要來源，該技術使得高存儲容量加上每兆字節存儲合理的價格成為可能。通常表示為每平方英寸磁盤表面積千兆比特(千兆比特/平方英寸(Gbits/in²))的面密度，等于線密度(每英寸軌道的信息比特數)乘以表示為每英寸軌道數的軌道密度。提高的面密度已經成為每兆字節價格降低的主要因素，并且面密度的進一步提高一直是工業上所需要的。?

在光存儲器領域中，進展集中在存取時間、系統容量和有競爭力的成本。通過著眼于光學器件的衍射極限(使用近場光學器件)、研究三維存儲、研究可能的全息記錄方法和其他技術，致力于提高面密度。?

聚合物數據存儲介質已經用于下列領域中，諸如光盤(CD)和可記錄的或可擦寫的光盤(如CD-RW)、以及類似的相對低面密度的、如小于約1Gbits/in²的器件，其通常是需要使用雙折射低的優良光學性能基材的通讀器件(read-through?device)。?

與CD不同，面密度容量高、通常達到或大于約5Gbits/in²的存儲介質，采用第一表面或近場讀/寫技術，以便提高面密度。對于所述存儲介質，盡?管與基材的光學品質無關，但是基材的物理和機械性能變得愈加重要。對于高面密度的應用，包括第一表面應用，存儲介質的表面品質會影響讀取裝置的準確性、存儲數據的能力、和基材的復制品質。?

盡管有目前可用于數據存儲介質的材料，但是仍然需要另外的聚合物材料，其具有滿足數據存儲介質應用日益嚴格的要求所必需的綜合特性。?

發明內容

一種實施方案中，通過以下純化聚合物材料的方法滿足上述需求：所述方法包括在擠出機中熔融共混聚(亞芳基醚)和聚(鏈烯基芳族化合物)以形成熔體(也稱作熔體混合物)；以及通過熔體過濾系統過濾該熔體以制備已過濾的聚合物材料。?

另一實施方案中，所述熔體過濾系統采用濾網組(screen?packs)、燒結的金屬過濾器、或其結合。另一實施方案中，所述熔體在擠出機中的平均停留時間少于或等于5分鐘。?

另一實施方案中，提供一種包含聚(亞芳基醚)和聚(鏈烯基芳族化合物)的組合物，其中每克所述組合物含有少于30個、或更特別地少于20個、或者甚至更特別地少于10個平均直徑為30μm的微粒。?

另一實施方案中，提供一種包含聚(亞芳基醚)和聚(鏈烯基芳族化合物)的組合物，其中每克所述組合物含有少于200個、或更特別地少于140個、或者甚至更特別地少于100個平均直徑為20μm的微粒。?

另一實施方案中，提供一種已過濾的聚合物組合物，其中每克所述已過濾的組合物含有少于30個、或更特別地少于20個、或者甚至更特別地少于10個平均直徑為30μm的微粒，同時每克所述已過濾的組合物含有少于200個、或更特別地少于140個、或者甚至更特別地少于100個平均直徑為20μm的微粒。?

另一實施方案中，提供包括上述已過濾組合物在內的已過濾的組合物，其中每克所述已過濾的組合物含有零個平均直徑為175μm或更大、或更特別地140μm或更大、或者甚至更特別地100μm或更大的微粒。其他實施方案，包括由所述已過濾的聚合物材料制成的制品，在以下進行描述。?

另一實施方案中，提供一種料粒，其基本上不含延伸超過或等于所述料粒直徑1/3的表面空隙，其中所述料粒包含本文所述的已過濾的聚合物組?合物。?

另一實施方案中，公開一種制造數據存儲介質基材的方法，其包括在擠出機中熔融共混聚(亞芳基醚)和聚(鏈烯基芳族化合物)以形成熔體；通過熔體過濾系統過濾該熔體以制備已過濾的聚合物組合物；其中基于5次試樣測量的平均值，所述已過濾的聚合物組合物符合至少一種以下情況：?