[發(fā)明專利]在用于制造光學膜、組件或波導的基板中切割或形成凹穴的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580034357.0 | 申請日： | 2005-06-28 |
| 公開（公告）號： | CN101039796A | 公開（公告）日： | 2007-09-19 |
| 發(fā)明（設計）人： | 杰弗瑞·R·派克;提摩西·A·麥考卡棱;羅伯特·M·艾塞爾;克特·R·史達基 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海向隆電子科技有限公司 |
| 主分類號： | B29D11/00 | 分類號： | B29D11/00;G02B6/12 |
| 代理公司： | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人： | 胡美強 |
| 地址： | 中國上海市金山區(qū)亭*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 制造 光學 組件 波導 基板中 切割 形成 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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