[發(fā)明專利]活性能量射線粘合力消失型壓敏粘合劑、涂布其的活性能量射線粘合力消失型粘合片和蝕刻化金屬體的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580033321.0 | 申請日： | 2005-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN101031625A | 公開（公告）日： | 2007-09-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 薄井慎一;緒方敬三 | 申請（專利權(quán)）人： | 東洋油墨制造株式會社 |
| 主分類號： | C09J4/00 | 分類號： | C09J4/00;H05K3/20 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 劉冬;李平英 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 活性 能量 射線 粘合 消失 型壓敏 粘合劑 蝕刻 金屬 制造 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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