[發(fā)明專利]通過顆粒流處理方法拋光用于記錄介質(zhì)的基底的端表面的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580029265.3 | 申請日： | 2005-08-26 |
| 公開（公告）號： | CN101010167A | 公開（公告）日： | 2007-08-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 羽根田和幸;川上義男 | 申請（專利權(quán)）人： | 昭和電工株式會社 |
| 主分類號： | B24B29/00 | 分類號： | B24B29/00;G11B5/84;B24B9/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務(wù)所 | 代理人： | 楊曉光;李崢 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 通過 顆粒 處理 方法 拋光 用于 記錄 介質(zhì) 基底 表面 | ||
【說明書】：
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