[發明專利]光刻膠保護膜形成用材料以及使用該材料的光刻膠圖案的形成方法有效
| 申請號： | 200580025673.1 | 申請日： | 2005-07-29 |
| 公開（公告）號： | CN101019076A | 公開（公告）日： | 2007-08-15 |
| 發明（設計）人： | 遠藤浩太郎;吉田正昭;石冢啟太 | 申請（專利權）人： | 東京應化工業株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/11 | 分類號： | G03F7/11;G03F7/039;G03F7/20;G03F7/38;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 | 代理人： | 徐雁漪 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 保護膜 形成 用材 以及 使用 材料 圖案 方法 | ||
【權利要求書】：
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