[發明專利]用于產生均勻可調的微波等離子體的等離子體噴嘴陣列無效
| 申請號: | 200580025065.0 | 申請日: | 2005-07-21 |
| 公開(公告)號: | CN101066000A | 公開(公告)日: | 2007-10-31 |
| 發明(設計)人: | 李相勛;金重秀 | 申請(專利權)人: | 阿瑪仁特技術有限公司;諾日士鋼機株式會社 |
| 主分類號: | H05H1/46 | 分類號: | H05H1/46;H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 武玉琴;張友文 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 產生 均勻 可調 微波 等離子體 噴嘴 陣列 | ||
1.一種設置微波等離子體噴嘴陣列的方法,包括以下步驟:
沿相反的方向將微波引入微波空腔內,使微波發生干涉并在微波空腔內形成靜態的穩定微波圖;
調節所述微波中至少一個微波的相位以控制由穩定微波圖產生的高能量域;以及
將噴嘴陣列至少部分地設置在微波空腔內,使噴嘴陣列中的一個或多個噴嘴部件從對應的一個高能量域中接收微波能量,
每個噴嘴包括:
a)氣流管,其適于引導從其中經過的氣流并具有入口部和出口部;
b)所述出口部設置于所述微波空腔的外側;
c)沿軸向設置在所述氣流管中的棒狀導體,所述棒狀導體具有尖端和收集部,(c1)所述收集部設置于所述微波空腔中以接收位于所述收集部的微波,(c2)沿所述棒狀導體的表面傳輸接收的微波,(c3)將所述微波聚集在所述尖端上,以及(c4)所述尖端相鄰于所述出口部設置。
2.根據權利要求1所述的方法,其中,所述引入微波的步驟包括以下步驟:
將微波傳輸至微波空腔;以及
利用與微波空腔操作性連接的滑動式短路來反射微波。
3.根據權利要求1所述的方法,其中,所述引入微波的步驟包括以下步驟:
將由兩個微波能量頭產生的微波傳輸至微波空腔。
4.一種設置微波等離子體噴嘴陣列的方法,包括以下步驟:
沿第一軸線、以相反的方向將第一對微波引入微波空腔內;
沿第二軸線、以相反的方向將第二對微波引入微波空腔內,所述第一軸線垂直于所述第二軸線,使得第一對和第二對微波發生干涉并在微波空腔內形成靜態的高能量域;
調節所述微波中至少一個微波的相位以控制高能量域;
將噴嘴陣列至少部分地設置在微波空腔內,使噴嘴陣列中的一個或多個噴嘴部件從對應的一個高能量域中接收微波能量。
5.根據權利要求4所述的方法,其中,所述引入第一對微波的步驟包括以下步驟:
將微波傳輸至微波空腔;以及
利用與微波空腔操作性連接的滑動式短路來反射微波。
6.根據權利要求4所述的方法,其中,所述引入第一對微波的步驟包括以下步驟:
將由兩個微波能量頭產生的微波傳輸至微波空腔。
7.根據權利要求4所述的方法,還包括以下步驟:
通過微波能量頭產生微波;以及
設置與微波能量頭連接的功率分流器。
8.根據權利要求4所述的方法,其中,所述調節至少一個微波的相位的步驟包括調節第一對微波的相位。
9.根據權利要求4所述的方法,其中,所述調節至少一個微波的相位的步驟包括調節第二對微波的相位。
10.根據權利要求4所述的方法,其中,所述調節至少一個微波的相位的步驟包括調節第一對微波和第二對微波的相位。
11.一種微波等離子體噴嘴陣列單元,包括:
微波空腔;以及
噴嘴陣列,每個所述噴嘴包括:
a)氣流管,其適于引導從其中經過的氣流并具有入口部和出口部;
b)所述出口部設置于所述微波空腔的外側;
c)沿軸向設置在所述氣流管中的棒狀導體,所述棒狀導體具有尖端和收集部,(c1)所述收集部設置于所述微波空腔中以接收位于所述收集部的微波,(c2)沿所述棒狀導體的表面傳輸接收的微波,(c3)將所述微波聚集在所述尖端上,以及(c4)所述尖端相鄰于所述出口部設置。
12.根據權利要求11所述的微波等離子體噴嘴陣列單元,其中,每個所述噴嘴還包括:
設置在所述棒狀導體與所述氣流管之間的渦流引導件,所述渦流引導件具有至少一個通道,使沿著所述至少一個通道通過的氣體具有繞所述棒狀導體的螺旋形流動方向。
13.根據權利要求12所述的微波等離子體噴嘴陣列單元,其中,所述微波空腔包括壁,所述微波空腔的壁形成與所述氣流管的入口部操作性連接的一部分氣流通道。
14.根據權利要求11所述的微波等離子體噴嘴陣列單元,其中,每個所述噴嘴還包括:
相鄰于所述氣流管的一部分設置的屏蔽件,用于減小穿過所述氣流管時的微波能量損失,所述屏蔽件由導體材料制成。
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