[發(fā)明專利]成像方法和裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200580024159.6 | 申請日： | 2005-05-10 |
| 公開（公告）號： | CN101147049A | 公開（公告）日： | 2008-03-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 威廉·拉斯曼;戴維·拉林;羅伯特·A·里伯曼;羅薩·U·肯彭;赫伯特·沙皮羅 | 申請（專利權(quán)）人： | 專家技術(shù)公司 |
| 主分類號： | G01J4/00 | 分類號： | G01J4/00;G01N21/55;G01N33/53;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人： | 馬高平;楊梧 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 成像 方法 裝置 | ||
1.一種成像裝置，包括：
發(fā)射偏振光束的光源；
包括控制層和光反射表面的光學(xué)組件，其中所述光束通過控制層并且被光反射表面反射，以在光反射表面附近提供具有控制高度和強(qiáng)度的漸逝場，光反射表面適于在其上提供標(biāo)本陣列，使得在漸逝場中的標(biāo)本陣列導(dǎo)致在所述光束的橫截面中的空間分布偏振變化；和
檢測器，設(shè)置為檢測所述光束的空間分布偏振變化，以提供標(biāo)本陣列的圖像。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述控制層包括玻璃、液晶、和/或半導(dǎo)體材料。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述控制層具有控制漸逝場產(chǎn)生的厚度。
4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述控制層具有控制漸逝場產(chǎn)生的折射率。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述控制層具有控制漸逝場產(chǎn)生的反射特性。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述光反射表面包括施加電勢的金屬膜。
7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其中所述金屬膜包括金、銀、鈦、和/或鉻。
8.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述標(biāo)本陣列包括由多個(gè)場形成的二維陣列，所述多個(gè)場包括生物分子物質(zhì)。
9.如權(quán)利要求8所述的裝置，其中所述生物分子物質(zhì)是蛋白質(zhì)、肽、碳水化合物、脂肪、和/或多聚核苷酸序列。
10.一種成像裝置，包括：
發(fā)射偏振光束的光源；
包括光反射表面的光學(xué)組件，其中所述光束被光反射表面反射，以在光反射表面附近提供漸逝場，光反射表面包括在其上提供標(biāo)本陣列的連接部分，使得在漸逝場中的標(biāo)本陣列導(dǎo)致在所述光束的橫截面中的空間分布偏振變化；和
檢測器，設(shè)置為檢測所述光束的空間分布偏振變化，以提供標(biāo)本陣列的圖像。
11.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述光反射表面由從包括半導(dǎo)體、金屬和塑料的組中選擇的材料組成。
12.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述光反射表面由硅烷組成，所述連接部分包括硅烷劑。
13.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述光反射表面由金屬組成，所述連接部分包括含硫化合物。
14.如權(quán)利要求13所述的裝置，其中所述金屬包括金、銀、鈦、和/或鉻。
15.如權(quán)利要求13所述的裝置，其中含硫化合物是硫醇。
16.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述光反射表面由塑料組成。
17.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述連接部分具有生物分子物質(zhì)的親和力。
18.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述標(biāo)本陣列包括由多個(gè)場形成的二維陣列，所述多個(gè)場包括生物分子物質(zhì)。
19.如權(quán)利要求18所述的裝置，其中所述生物分子是蛋白質(zhì)、肽、碳水化合物、脂肪、和/或多聚核苷酸序列。
20.一種成像方法，包括：
使偏振光束射入包括控制層和光反射表面的光學(xué)組件；
利用所述控制層在所述光反射表面附近提供具有控制高度和強(qiáng)度的漸逝場；
在漸逝場中提供標(biāo)本陣列，該標(biāo)本陣列導(dǎo)致在光束橫截面中的空間分布偏振變化；和
使經(jīng)反射的光束經(jīng)過光學(xué)組件，在所述光學(xué)組件中，光束的空間分布偏振變化被檢測和處理，以提供標(biāo)本陣列的圖像。
21.如權(quán)利要求20所述的方法，其中所述控制層的光學(xué)性能用于控制漸逝場的高度和強(qiáng)度。
22.如權(quán)利要求21所述的方法，其中所述控制層的光學(xué)性能從包括厚度、折射率、和反射特性組中選擇。
23.如權(quán)利要求20所述的方法，其中所述控制層由液晶組成，液晶用于控制控制層的光學(xué)性能。
24.如權(quán)利要求20所述的方法，其中所述光反射表面由金屬組成。
25.如權(quán)利要求24所述的方法，還包括給金屬施加電勢，以控制漸逝場的高度和強(qiáng)度。
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