[發明專利]氣態流出物的常壓等離子體處理無效
| 申請號: | 200580023515.2 | 申請日: | 2005-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN101065182A | 公開(公告)日: | 2007-10-31 |
| 發明(設計)人: | Y·卡保齊;M·穆瓦桑;J-C·羅斯坦;D·介朗;H·迪爾菲;P·穆瓦內;V·洛朗;B·迪佩特 | 申請(專利權)人: | 喬治洛德方法研究和開發液體空氣有限公司 |
| 主分類號: | B01J19/08 | 分類號: | B01J19/08;B01D53/70 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 | 代理人: | 林柏楠;劉金輝 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣態 流出物 常壓 等離子體 處理 | ||
1.將第一氣體或氣體混合物轉化為可能含有由該轉化產生的液體和/或固體產物的第二氣體或氣體混合物的方法,該第一氣體或氣體混合物包含至少一些在構成分子的兩個原子之間含有至少一個鍵的分子,其中,在對所述第一氣體或氣體混合物施加的電場和/或磁場的作用下,所述分子的兩個原子之間的至少一個鍵斷裂,該方法的特征在于將氣體或氣體混合物流以非直線方式注射通過電場和/或磁場,以增大氣體分子運行通過所述場的距離,并因此提高氣體或氣體混合物分子的鍵的斷裂效力。
2.如權利要求1所述的方法,其特征在于所述第一氣體或氣體混合物是包含氟化氣態流出物、特別是PFC、HFC或類似氣體的混合物。
3.如權利要求1所述的方法,其特征在于所述第一氣體或氣體混合物包含在氟原子和另一原子之間具有鍵的分子,其通過穿過電場和/或磁場能夠產生分子氟。
4.如權利要求1至3之一所述的方法,其特征在于將氣體或氣體混合物如下注入所述場中:氣體或氣體混合物的切向運動的量大于所述氣體或氣體混合物的軸向運動的量。
5.如權利要求4所述的方法,其特征在于切向運動的量遠大于軸向運動的量。
6.如權利要求1至5之一所述的方法,其特征在于將至少一部分氣體或氣體混合物在受到電場和/或磁場作用之前以具有切向速度分量的方式注入空腔。
7.如權利要求6所述的方法,其特征在于通過包括切向分量的多個注射注射氣體或氣體混合物。
8.如權利要求1至7之一所述的方法,其特征在于切向注射規則地分布在圓周上。
9.如前述權利要求之一所述的方法,其特征在于注射位于相同平面中。
10.如前述權利要求之一所述的方法,其特征在于注射位于不同平面中。
11.如前述權利要求之一所述的方法,其特征在于位于相同平面中的注射規則分布。
12.如權利要求1至11之一所述的方法,其特征在于在第一平面進行待處理氣體的注射,并在第二平面進行例如空氣、氮氣或氧氣的推進氣體的注射,第二平面優選與第一平面平行。
13.用于實施如權利要求1至12之一所述的方法的氣體注射裝置,其特征在于該裝置包括至少一個氣體注射通道,其優選位于與上端封閉的所述管的軸垂直的平面中。
14.如權利要求13所述的裝置,其特征在于其包括至少一個第二氣體注射通道,其優選位于與該管的軸垂直的平面中。
15.如權利要求13或14所述的裝置,其特征在于其包括具有兩個層面并還包括用于注射輔助氣體的孔(203)的動態注射頭。
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