[發明專利]用于差錯檢測和工藝控制的等離子體離子注入監視系統有效
| 申請號： | 200580021855.1 | 申請日： | 2005-05-26 |
| 公開（公告）號： | CN1977352A | 公開（公告）日： | 2007-06-06 |
| 發明（設計）人： | 方子偉;高圣天;埃德蒙·J·溫德;丹尼爾·迪斯塔索;盧多維克·戈代;高本雄;賈伊·T·朔伊爾 | 申請（專利權）人： | 瓦里安半導體設備聯合公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 | 代理人： | 楊生平;楊紅梅 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 差錯 檢測 工藝 控制 等離子體 離子 注入 監視 系統 | ||
【權利要求書】：
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