[發明專利]蝕刻速率控制無效
| 申請號： | 200580021333.1 | 申請日： | 2005-04-28 |
| 公開（公告）號： | CN1976789A | 公開（公告）日： | 2007-06-06 |
| 發明（設計）人： | 馬克·A·克拉納 | 申請（專利權）人： | 維爾克羅工業公司 |
| 主分類號： | B29C33/30 | 分類號： | B29C33/30;B29C33/38;A44B18/00;C23F1/02;B29C43/22;B29C59/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 宋莉;賈靜環 |
| 地址： | 荷屬安的列*** | 國省代碼： | 荷屬安的列斯;AN |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 蝕刻 速率 控制 | ||
【說明書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于維爾克羅工業公司，未經維爾克羅工業公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200580021333.1/2.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：熔渣細料的可活動的成粒設備
- 下一篇：雙穩態電浸潤光學元件及其驅動方法
