[發明專利]用飽和染料進行核酸解鏈分析有效
| 申請號: | 200580019704.2 | 申請日: | 2005-04-20 |
| 公開(公告)號: | CN101198706A | 公開(公告)日: | 2008-06-11 |
| 發明(設計)人: | C·T·威特沃;L·周;V·E·杜喬勒斯;J·A·霍爾登;C·威爾默-佩尼 | 申請(專利權)人: | 猶他大學研究基金會;愛達荷州技術股份有限公司 |
| 主分類號: | C12Q1/68 | 分類號: | C12Q1/68;C07H21/02;C12P19/34;C07D293/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人: | 徐迅 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 飽和 染料 進行 核酸 解鏈 分析 | ||
1.一種具有下式的化合物:
式中
部分代表任選取代的稠合的單環或多環芳環或任選取代的稠合的單環或多環含氮雜芳環;
X是氧、硫、硒、碲或選自下組的部分:C(CH3)2或NR1,其中R1是氫或C1-6烷基;
R2選自:C1-6烷基、C3-8環烷基、芳基、芳基(C1-3烷基)、羥基烷基、烷氧基烷基、氨基烷基、單烷基氨基烷基和二烷基氨基烷基、三烷基銨烷基、亞烷基羧酸酯、亞烷基羧酰胺、亞烷基磺酸酯、任選取代的含雜原子的環狀部分或任選取代的含雜原子的非環狀部分;
t=0或1;
Z是0或1個電荷;
R3選自:氫、C1-6烷基或芳基羰基,或者R2和R3一起形成-(CH2)w-,式中w是1-5;
R9和R10各自獨立地選自:氫、C1-6烷基或芳基羰基;
n=0、1或2;和
v=0或1;限制條件是當R2和R3沒有一起形成-(CH2)w-時v=0;
當v=0時,Q是選自下組結構的雜環:
和
當v=1時,Q是選自下組結構的雜環:
式中R4、R5、R6、R7、R8、R12和R13獨立地選自:氫、鹵素、烷基、環烷基、雜烷基、雜環烷基、烯基、聚烯基、炔基、聚炔基、烯基炔基、烷基腈硫基、芳基、雜芳基、烷氧基、烷硫基、芳基羰硫基、環雜烷基羰硫基、二烷基氨基烷基羰硫基、二烷基氨基、環烷硫基、環雜烷硫基、三烷基銨烷硫基、三烷基銨烷基羰硫基或核苷硫基,以上基團各自可被任選取代;以及各自任選地包含季銨部分的含雜原子的非環狀部分、含雜原子的環狀部分、BRIDGE-DYE或反應性基團。
2.如權利要求1所述的化合物,其特征在于,R4、R5、R6、R7和R8中至少一個選自芳基羰硫基、環雜烷基羰硫基、二烷基氨基烷基羰硫基、三烷基銨烷基羰硫基、烷基腈硫基、環烷硫基、環雜烷硫基、三烷基銨烷硫基或核苷硫基,以上基團各自可被任選取代。
3.如權利要求2所述的化合物,其特征在于,R4是任選取代的芳基羰硫基,選自:4-(羰硫基)-吡啶基、4-(羰硫基)-硝基苯基、4-(羰硫基)-苯基、4-(羰硫基)-N,N-二甲基苯胺基、2-(羰硫基)-吡嗪基、6-(羰硫基)-苯并吡嗪基、5-(羰硫基)-1-甲基-1,2,3-苯并三唑基或羰硫基-五氟苯基。
4.如權利要求2所述的化合物,其特征在于,R4是任選取代的環雜烷基羰硫基,選自:4-(羰硫基)-N-甲基哌嗪基、4-(羰硫基)-N,N-二甲基哌嗪鎓或4-(羰硫基)-嗎啉基。
5.如權利要求2所述的化合物,其特征在于,R4是任選取代的二烷基氨基烷基羰硫基N,N-二甲基氨基甲基羰硫基。
6.如權利要求2所述的化合物,其特征在于,R4是任選取代的三烷基銨烷基羰硫基三甲基銨甲基羰硫基。
7.如權利要求2所述的化合物,其特征在于,R4是任選取代的烷基腈硫基乙腈硫基。
8.如權利要求2所述的化合物,其特征在于,R4是任選取代的環烷硫基1-(硫代)-雙環[2.2.1]庚基。
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