[發明專利]半導體器件制造設備部件的雜質減少系統、裝置和方法無效
| 申請號： | 200580015569.4 | 申請日： | 2005-02-25 |
| 公開（公告）號： | CN1954167A | 公開（公告）日： | 2007-04-25 |
| 發明（設計）人： | D·G·恩尼克斯;C·E·弗里德里克斯;R·A·布魯克 | 申請（專利權）人： | 愛特梅爾股份有限公司 |
| 主分類號： | F16K11/00 | 分類號： | F16K11/00 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人： | 陳煒 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 半導體器件 制造 設備 部件 雜質 減少 系統 裝置 方法 | ||
【權利要求書】：
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