[發明專利]可變式四磁控管陣列，特別適用于多步驟工藝以在濺射反應器中形成金屬阻擋層有效
| 申請號： | 200580013590.0 | 申請日： | 2005-05-20 |
| 公開（公告）號： | CN1950538A | 公開（公告）日： | 2007-04-18 |
| 發明（設計）人： | 則敬·龔;付新宇;阿爾文德·森達娜簡;愛德華·P·IV·哈蒙德;普拉巴拉姆·戈帕拉杰;約翰·C·福斯特;馬克·A·佩林;安德魯·S·吉拉德 | 申請（專利權）人： | 應用材料股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C16/00;C23F1/02 |
| 代理公司： | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 | 代理人： | 徐金國;梁揮 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 可變 式四磁控管 陣列 特別 適用于 步驟 工藝 濺射 反應器 形成 金屬 阻擋 | ||
【權利要求書】：
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