[發明專利]成像裝置校準方法和成像裝置校準儀表無效
| 申請號： | 200580012002.1 | 申請日： | 2005-03-28 |
| 公開（公告）號： | CN1943250A | 公開（公告）日： | 2007-04-04 |
| 發明（設計）人： | J·M·迪卡洛 | 申請（專利權）人： | 惠普開發有限公司 |
| 主分類號： | H04N17/00 | 分類號： | H04N17/00;H04N1/60 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 楊凱;王勇 |
| 地址： | 美國德*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 成像 裝置 校準 方法 儀表 | ||
【權利要求書】：
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于惠普開發有限公司，未經惠普開發有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200580012002.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：利用干涉測量技術光學追蹤目標的方法和系統
- 下一篇：縫紉機的挑線機構
