[發(fā)明專利]納米孔洞型抗反射膜及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200510135363.7 | 申請日： | 2005-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN1991411A | 公開（公告）日： | 2007-07-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 趙桂蓉;黃國瑩;陳淑芳 | 申請（專利權(quán)）人： | 財團法人工業(yè)技術(shù)研究院 |
| 主分類號： | G02B1/11 | 分類號： | G02B1/11;C03C17/00 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人： | 劉新宇 |
| 地址： | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 納米 孔洞 反射 及其 制備 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
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