[發明專利]光刻設備、檢偏片、組件、測量參數的方法和構圖裝置有效
| 申請號： | 200510131777.2 | 申請日： | 2005-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN1790170A | 公開（公告）日： | 2006-06-21 |
| 發明（設計）人： | T·F·森格斯;M·A·范德科霍夫 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027;G01J1/42 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 李亞非;梁永 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 設備 檢偏片 組件 測量 參數 方法 構圖 裝置 | ||
【權利要求書】：
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