[發明專利]制造高到低和低到高反射比型光盤介質的方法無效
| 申請號： | 200510092166.1 | 申請日： | 2005-08-22 |
| 公開（公告）號： | CN1750133A | 公開（公告）日： | 2006-03-22 |
| 發明（設計）人： | 山中豐 | 申請（專利權）人： | 日本電氣株式會社 |
| 主分類號： | G11B7/00 | 分類號： | G11B7/00;G11B7/24;G11B7/16;G11B20/10 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 朱進桂 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 制造 高到低 低到高 反射 光盤 介質 方法 | ||
【說明書】：
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