[發明專利]用于半導體器件制造的掩模圖形及形成掩模圖形的方法以及制造精細地構圖的半導體器件的方法無效
| 申請號： | 200510087449.7 | 申請日： | 2005-07-22 |
| 公開（公告）號： | CN1734352A | 公開（公告）日： | 2006-02-15 |
| 發明（設計）人： | 夏政煥;洪震;金賢友;畑光宏;科拉克·瑪亞·蘇布拉馬尼安;禹相均 | 申請（專利權）人： | 三星電子株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/075 | 分類號： | G03F7/075;G03F7/09;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 | 代理人： | 林宇清;謝麗娜 |
| 地址： | 韓國京畿*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 半導體器件 制造 圖形 形成 方法 以及 精細 構圖 | ||
【說明書】：
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