[發(fā)明專利]步進(jìn)掃描光刻機(jī)晶片臺(tái)掩模臺(tái)同步控制系統(tǒng)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200510086886.7 | 申請(qǐng)日： | 2005-11-17 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1967386A | 公開（公告）日： | 2007-05-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 朱濤;李艷秋 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)科學(xué)院電工研究所 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20;G05D3/12;G03F7/22;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 關(guān)玲 |
| 地址： | 100080北*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 步進(jìn) 掃描 光刻 晶片 臺(tái)掩模臺(tái) 同步 控制系統(tǒng) | ||
【說明書】：
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- 同類專利
- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作，例如，鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
