[發(fā)明專(zhuān)利]采用環(huán)形光柵和選通快門(mén)的成像干涉光刻方法和系統(tǒng)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200510086828.4 | 申請(qǐng)日: | 2005-11-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN1752848A | 公開(kāi)(公告)日: | 2006-03-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張錦;馮伯儒 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F7/20 | 分類(lèi)號(hào): | G03F7/20;G02B5/18;G02B27/60 |
| 代理公司: | 北京科迪生專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 劉秀娟;成金玉 |
| 地址: | 610209*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 采用 環(huán)形 光柵 快門(mén) 成像 干涉 光刻 方法 系統(tǒng) | ||
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專(zhuān)用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類(lèi)似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
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