[發明專利]曝光裝置、曝光方法以及曝光處理程序有效
| 申請號： | 200510075830.1 | 申請日： | 2005-05-27 |
| 公開（公告）號： | CN1702557A | 公開（公告）日： | 2005-11-30 |
| 發明（設計）人： | 篠原雄一;田端秀敏 | 申請（專利權）人： | 株式會社ORC制作所 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 | 代理人： | 李輝 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 曝光 裝置 方法 以及 處理 程序 | ||
【說明書】：
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