[發明專利]用于補償介質上的缺陷的設備、介質和方法有效
| 申請號： | 200510072681.3 | 申請日： | 2005-05-16 |
| 公開（公告）號： | CN1713293A | 公開（公告）日： | 2005-12-28 |
| 發明（設計）人： | 金旼奭;安龍津;姜景弼 | 申請（專利權）人： | 三星電子株式會社 |
| 主分類號： | G11B20/18 | 分類號： | G11B20/18;G11B7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人： | 邸萬奎;黃小臨 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 補償 介質 缺陷 設備 方法 | ||
【說明書】：
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