[發(fā)明專利]液滴噴射裝置、電光學(xué)裝置、電光學(xué)裝置的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200510072634.9 | 申請(qǐng)日： | 2005-05-16 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1695947A | 公開（公告）日： | 2005-11-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 松本良一;大草隆;小島健嗣 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | B41J2/01 | 分類號(hào)： | B41J2/01;G02F1/133;B05C5/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 李香蘭 |
| 地址： | 日本*** | 國(guó)省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 噴射 裝置 光學(xué) 制造 方法 | ||
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B41 印刷；排版機(jī)；打字機(jī)；模印機(jī)
B41J 打字機(jī)；選擇性印刷機(jī)構(gòu)，即不用印版的印刷機(jī)構(gòu)；排版錯(cuò)誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計(jì)的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
B41J 打字機(jī)；選擇性印刷機(jī)構(gòu)，即不用印版的印刷機(jī)構(gòu)；排版錯(cuò)誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計(jì)的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
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