[發(fā)明專利]濺射靶及其制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200510071302.9 | 申請(qǐng)日： | 1997-01-03 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN1727514A | 公開（公告）日： | 2006-02-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | J·E·M·范德爾斯特雷藤 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 比夫巴.范德斯特拉登E |
| 主分類號(hào)： | C23C4/10 | 分類號(hào)： | C23C4/10;C23C14/34;C23C14/08;C01G23/047 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 李連濤 |
| 地址： | 比利時(shí)*** | 國省代碼： | 比利時(shí);BE |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 濺射 及其 制備 方法 | ||
【說明書】：
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法，例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預(yù)處理，例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法，例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預(yù)處理，例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
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