[發(fā)明專(zhuān)利]電荷捕捉非易失性存儲(chǔ)器的電荷平衡抹除操作機(jī)制有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200510069645.1 | 申請(qǐng)日： | 2005-04-26 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1700448A | 公開(kāi)（公告）日： | 2005-11-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 呂函庭;施彥豪;謝光宇 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 旺宏電子股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H01L21/8247 | 分類(lèi)號(hào)： | H01L21/8247;H01L27/115;G11C16/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人： | 黃小臨;王志森 |
| 地址： | 臺(tái)灣省新竹*** | 國(guó)省代碼： | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電荷 捕捉 非易失性存儲(chǔ)器 平衡 操作 機(jī)制 | ||
【說(shuō)明書(shū)】：
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H01 基本電氣元件
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
- 處理器、存儲(chǔ)器、計(jì)算機(jī)系統(tǒng)、系統(tǒng)LSI及其驗(yàn)證方法
- 半導(dǎo)體器件和IC卡
- 安全的非易失性存儲(chǔ)器裝置以及對(duì)其中的數(shù)據(jù)進(jìn)行保護(hù)的方法
- 非易失性存儲(chǔ)器數(shù)據(jù)寫(xiě)入方法、存儲(chǔ)系統(tǒng)及其控制器
- 對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行配置的方法、計(jì)算系統(tǒng)以及物品
- 非易失性存儲(chǔ)器接口
- 對(duì)存儲(chǔ)器設(shè)備中的非易失性存儲(chǔ)器和易失性存儲(chǔ)器進(jìn)行同時(shí)存取的技術(shù)
- 存儲(chǔ)裝置
- 控制非易失性存儲(chǔ)器器件的初始化的方法以及存儲(chǔ)器系統(tǒng)
- 非易失性存儲(chǔ)器的檢測(cè)方法及相關(guān)設(shè)備
