[發(fā)明專(zhuān)利]帶有自限制微型機(jī)械元件的雙層介質(zhì)反射空間光調(diào)制器無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200510067929.7 | 申請(qǐng)日： | 1998-09-24 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN1673800A | 公開(kāi)（公告）日： | 2005-09-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | A·G·休博斯 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 反射公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G02B26/00 | 分類(lèi)號(hào)： | G02B26/00;G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人： | 趙蓉民 |
| 地址： | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼： | 美國(guó);US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 帶有 限制 微型 機(jī)械 元件 雙層 介質(zhì) 反射 空間 調(diào)制器 | ||
【權(quán)利要求書(shū)】：
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