[發(fā)明專利]液滴噴出裝置、液滴噴出方法、電光學(xué)裝置及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200510067323.3 | 申請日： | 2005-04-15 |
| 公開（公告）號： | CN1693084A | 公開（公告）日： | 2005-11-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 臼田秀范 | 申請（專利權(quán)）人： | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號： | B41J2/18 | 分類號： | B41J2/18;B41J2/01 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人： | 李香蘭 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 噴出 裝置 方法 光學(xué) 及其 制造 | ||
【權(quán)利要求書】：
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B41 印刷；排版機；打字機；模印機
B41J 打字機；選擇性印刷機構(gòu)，即不用印版的印刷機構(gòu)；排版錯誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計的打字機或選擇性印刷機構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
B41J 打字機；選擇性印刷機構(gòu)，即不用印版的印刷機構(gòu)；排版錯誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計的打字機或選擇性印刷機構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射
